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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
微缩文字图案模具制作方法 CN01111132严化平132012吉林省吉林中西医结合医院孔丽萍转严化平　
图形形成材料和形成方法以及曝光用掩模的制造方法 CN01111868株式会社东芝日本神奈川县　
平版印刷版用支撑体及平版印刷版 CN01115735富士胶片株式会社日本国神奈川县　
用于曝光印刷版的小型多束激光光源和隔行光栅扫描线法 CN01115781海德堡印刷机械股份公司联邦德国海德堡　
图案轮廓的即时监测的方法 CN01116181矽统科技股份有限公司台湾省新竹科技园区　
用于照相制板工艺的增加聚焦深度的方法 CN01116638华邦电子股份有限公司台湾省新竹市新竹科学工业园区研新三路4号　
多重曝光方法 CN01117029南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
曝光装置、基片处理单元和光刻系统及器件制造方法 CN01118812株式会社尼康日本东京　
带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致抗蚀剂组合物 CN01118895海力士半导体有限公司韩国京畿道　
减少光刻工艺中光学近接效应偏差的方法 CN01119767华邦电子股份有限公司台湾省新竹市新竹科学工业园区研新三路4号　
负像记录材料和图像形成方法 CN01120322富士胶片株式会社日本国神奈川县　
用于集成电路光刻系统中的线阵光源扫描装置 CN01120600清华大学100084北京市海淀区清华园　
利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法 CN01120961中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130022吉林省长春市人民大街140号　
曝光装置 CN01121642株式会社尼康日本东京　
光刻装置和曝光方法 CN01121643株式会社尼康日本东京　
形成具有抗蚀刻效应的光阻的方法 CN01122794旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号　
非光致成像陶瓷带形成图案的方法 CN01122854纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
平版印刷的印刷板的制备方法 CN01125460富士胶片株式会社日本神奈川县　
对绿光敏感的光致聚合物全息记录材料及其制备方法 CN01126357中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市嘉定区嘉定镇清河路390号　
光学近接修正的方法 CN01129289旺宏电子股份有限公司中国台湾新竹科学工业园区力行路16号　
化学增强型正光刻胶组合物和锍盐 CN01129511住友化学工业股份有限公司日本国大阪市　
含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物 CN01129568美国永光公司美国北卡罗来纳州　
通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法 CN01129600旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
负性光敏平版印刷版 CN01133836富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光性平版印刷版 CN01134562富士胶片株式会社日本国神奈川县　
位置偏移光学测定装置的调整装置和调整方法 CN01134973株式会社尼康日本东京　
化学放大型正光刻胶组合物 CN01135041住友化学工业株式会社日本国大阪府　
用于束曝光的掩模及其制造方法 CN01136558日本电气株式会社日本东京　
曝光方法 CN01137027索尼株式会社日本东京　
用于制造显示面板的掩模 CN01138161LG电子株式会社韩国汉城市　
感光组合物 CN01139305富士胶片株式会社日本国神奈川县　
光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法 CN01140069日本电气株式会社日本国东京都　
光刻胶用剥离液组合物 CN01141490株式会社德成韩国京畿道　
并行处理式光学测距仪 CN01142047海德堡印刷机械股份公司联邦德国海德堡　
用一次光刻产生T形栅的移相掩模光刻方法 CN01142117信息产业部电子第十三研究所050081河北省石家庄市合作路113号　
设计电子束掩模的方法和装置 CN01142254日本电气株式会社日本东京　
光敏平版印刷版 CN01142781富士胶片株式会社日本国神奈川县　
基板曝光装置 CN01143415威盛电子股份有限公司台湾省台北县新店市中正路533号8楼　
用于阵列式集成电路光刻扫描装置的线阵光源 CN01144580清华大学100084北京100084－82信箱　
薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合剂 CN01144607三井化学株式会社日本国东京都　
光感应性SiO2凝胶薄膜制备及其微细图形制作方法 CN01145262西安理工大学710048陕西省西安市金花南路5号　
光掩模的制造方法 CN01145446株式会社东芝日本东京都　
衬底处理装置和处理方法 CN01145768株式会社东芝日本东京都　
曝光机的电路板对位装置 CN01218815川宝科技股份有限公司中国台湾　
曝光机曝光框的掀启装置 CN01218866川宝科技股份有限公司中国台湾　
光阻剥离装置 CN01219111铼宝科技股份有限公司台湾新竹县竹北市竹仁里仁义路65号　
曝光机的能量积算控制器 CN01258611梁茂忠510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号志圣科技(广州)公司　
药液涂敷装置及药液涂敷方法 CN200510074289松下电器产业株式会社日本大阪府　
基于等离子波的纳米光刻光学装置 CN200510011971中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
光刻机投影物镜奇像差原位检测方法 CN200510026450中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市800-211邮政信箱　
气体产生量少的薄膜 CN200380103262三井化学株式会社日本东京都　
负型感光性树脂组合物 CN200380102924旭硝子株式会社日本东京　
抗蚀组合物 CN200380102724旭硝子株式会社日本东京　
与厚膜糊料相容的保护层 CN200380103383纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
抗蚀图增厚材料及其形成方法、半导体器件及其制造方法 CN200410088021富士通株式会社日本神奈川县　
光刻装置和器件制造方法 CN200510079476ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
印花镍网高温固化膜剥离剂、其配制方法及其应用 CN200510039051朱守诚230088安徽省合肥市长江西路669号国家大学科技园C505　
用于去除(光致)抗蚀剂的组合物 CN200510077285东进世美肯株式会社大韩民国仁川市　
用于抗蚀剂剥离室的裸铝隔板 CN200510079142兰姆研究公司美国加利福尼亚　
用于制造可光成像黑色电极的可水显影光成像厚膜组合物 CN02820226E.I.内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
用于感光树脂组合物的涂敷性能改善剂和含有这种改善剂的感光树脂组合物 CN200380104035AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
光刻胶用抗反射组合物 CN200380103776AZ电子材料美国公司美国新泽西　
在交替相移掩模中着色局部着色的设计的系统 CN200510071825国际商业机器公司美国纽约　
一种微纳米结构图案的转印装置及方法 CN200410050075财团法人工业技术研究院中国台湾　
厚膜构件图案的制造方法 CN200510081831佳能株式会社日本东京　
光致抗蚀剂组合物及其无旋转涂布法、有机层图案制造方法、液晶显示器 CN200510072054三星电子株式会社韩国京畿道　
辐射敏感树脂组合物 CN200510079171住友化学株式会社日本国东京都　
辐射敏感的树脂组成物、固化树脂图案与液晶显示器 CN200510079868住友化学株式会社日本东京都　
红外感光光敏组合物 CN200510083632富士胶片株式会社日本神奈川县　
使用静态混合器和液-液离心机的树脂分级 CN200510068772科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
曝光系统的仿真方法和仿真装置 CN200410027941鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
图形描绘装置和图形描绘方法 CN200510066854大日本网目版制造株式会社日本京都府　
光刻显影装置及采用该装置制造滤色片基板的方法 CN200510077259LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
描绘装置及描绘方法 CN200510078585富士胶片株式会社日本神奈川县　
对准系统及对准方法 CN200510088148友达光电股份有限公司台湾新竹市　
光致抗蚀剂的显影方法及显影装置 CN200510082200夏普株式会社日本大阪市　
光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣的除去组合物 CN200510081085关东化学株式会社日本东京都　
形成凸缘相移掩模及利用凸缘相移掩模来形成半导体器件的方法 CN03818958飞思卡尔半导体公司美国得克萨斯　
模板 CN200380104384英根亚控股有限公司英属维尔京群岛托尔托拉岛　
使用超高耐热性正型感光组合物的图案形成方法 CN200380104283AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
含有无卤素着色剂的感光树脂组合物 CN200380104325西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
可固化组合物、固化产品、滤色器和液晶显示器件 CN200480001615三菱化学株式会社日本东京都　
辐射敏感树脂组合物 CN200380104596日本瑞翁株式会社日本东京都　
正型感光性组合物 CN200480001589株式会社新克日本国千叶县　
光刻系统 CN200380104096迈普尔平版印刷IP有限公司荷兰代尔夫特　
平版印刷用冲洗液以及用其形成抗蚀图案的方法 CN200380104413AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
防止芯片破裂的控制装置 CN200420009726台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹市新竹科学工业园区力行六路八号　
顶端抗反射涂料聚合物、制法及顶端抗反射涂料组合物 CN200510062817海力士半导体有限公司韩国京畿道　
纳米压印用紫外光固化阳离子型刻蚀胶 CN200510043034西安交通大学710049陕西省西安市咸宁路28号　
曝光装置以及曝光方法 CN200510083530富士胶片株式会社日本神奈川县　
制版用环保洗版液 CN200410027994广州荣键贸易发展有限公司510600广东省广州市达道路12金达大厦707－709　
局部眩光校正 CN03825736富士通株式会社日本国神奈川县　
LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法 CN200380104752东京应化工业株式会社日本神奈川县　
用于形成抗反射涂层的组合物 CN200380104698东京应化工业株式会社日本神奈川县　
掩膜图案及其形成方法、涂料组合物的制备方法、和制造半导体器件的方法 CN200510064902三星电子株式会社韩国京畿道　
波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法 CN200510075809HOYA株式会社日本东京　
灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法 CN200510084068HOYA株式会社日本东京　
光致抗蚀剂组合物 CN200510080628东进世美肯株式会社韩国仁川市　
片材形成用组合物、其制造方法、及显示屏制造用片材状未烧结体 CN200510080926东京応化工业株式会社日本川崎市　
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