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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
星形聚合物 CN200510082178住友化学株式会社日本国东京都　
采用压电致动器移动物体的系统和方法 CN200410100797ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备、控制系统及器件制造方法 CN200510064168ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光学放大率调节系统与投影曝光设备 CN200510073570株式会社阿迪泰克工程日本东京　
描绘装置及描绘方法 CN200510078177富士胶片株式会社日本神奈川县　
以倾斜掩膜板或晶片进行多焦点扫描 CN200510078229台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
光刻装置和器件制造方法 CN200510078661ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件 CN200510084819ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置和曝光方法 CN200510088498佳能株式会社日本东京　
光刻投射装置及使用这种光刻投射装置的器件制造方法 CN200510081963ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光阻剥离制程与光阻剥离装置 CN200410028146鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
图形尺寸校正装置及方法、光掩模以及试验用光掩模 CN200480001762富士通株式会社日本国神奈川县　
用于制造成形结构的装置及方法 CN200380105374宝洁公司美国俄亥俄州　
光刻用形成防反射膜的组合物 CN200380105388日产化学工业株式会社日本东京都　
用于电测量缝合掩膜的单向未对准的电阻结构 CN200380105656皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
防伪包装的生产工艺 CN200510034942广西真龙彩印包装有限公司542700广西壮族自治区贺州市富川瑶族自治县富阳镇民族路12号　
光反应装置 CN200510076504三洋电机株式会社日本国大阪府　
光刻装置和器件制造方法 CN200510081066ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有气体冲洗装置的光刻设备 CN200510081753ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置、曝光方法及半导体装置的制造方法 CN200510083389松下电器产业株式会社日本大阪府　
对准方法和装置，光刻装置，器件制造方法和对准工具 CN200510084450ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
纳米级设计结构、其制造方法及设备以及在掩模修复、增强和制造上的应用 CN200380105744纳米墨水公司美国伊利诺斯州芝加哥　
用于DNA微阵列生产的光敏掩膜的激光曝光 CN200380106084英特尔公司美国加利福尼亚州　
用于纳米压印的组合物和方法 CN200380106100普林斯顿大学美国新泽西　
滤色片黑色矩阵光阻组合物 CN200380106299昭和电工株式会社日本东京都　
光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、涂布装置和光致抗蚀剂组合物 CN200380106292东京应化工业株式会社日本神奈川县　
用于纳米压印的压模及其制备方法 CN200410050945鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
基于回流技术减少纳米压印复制品表面粗糙度的方法 CN200510028218上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
光刻胶保护膜用组合物、光刻胶保护膜及光刻胶图形形成方法 CN200510088468旭硝子株式会社日本东京　
改进的成像组合物和方法 CN200510008145罗姆及海斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
可用作光敏产酸剂的新型硫鎓盐化合物及其制备方法 CN200510038661常州华钛化学有限公司213241江苏省金坛市朱林大街8号　
含氟醚式结构多官能基光敏产酸剂及其制备方法 CN200510038717常州华钛化学有限公司213241江苏省金坛市朱林大街8号　
新型六芳基二咪唑光敏引发剂及聚酰亚胺光敏组合物 CN200510038811常州华钛化学有限公司213241江苏省金坛市朱林大街8号　
光刻装置及器件制作方法 CN200510009080ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种自控液晶光阀组光刻快门 CN200510016501中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130031吉林省长春市东南湖大路16号　
光刻装置及用于校准该光刻装置的方法 CN200510087651ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
通过施加电场在光固化组合物中加工纳米级图形的方法和系统 CN02810019德克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
滤色片黑色矩阵光阻组合物及用于该组合物的碳黑分散体组合物 CN200380106777昭和电工株式会社日本东京都　
阻质层涂覆方法、粘性材料的使用、粘性材料及阻质层 CN200380106827因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
双半球会聚器 CN200380100025英特尔公司美国加利福尼亚州　
极紫外线磁性对比光刻掩模及其制法 CN200510091072因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
一维纳米材料的三维微构型制备方法 CN200510028437上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
基于湿法刻蚀MEMS压印模板制造工艺 CN200510043070西安交通大学710049陕西省西安市咸宁路28号　
大面积微压印专用超平整度软模具的制作方法 CN200510043071西安交通大学710049陕西省西安市咸宁路28号　
一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统 CN200410009403中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法及光刻系统 CN200410009404中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
采用选通快门和梯形棱镜的成像干涉光刻方法及其光刻系统 CN200410009405中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
彩色滤光片的制造方法和曝光装置 CN200410051050鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
射频器件产品的通孔刻蚀方法 CN200410053418上海华虹NEC电子有限公司201206上海市浦东川桥路1188号　
双面蚀刻晶片的方法 CN200410055871探微科技股份有限公司台湾省桃园县　
液浸曝光装置及其控制方法以及器件制造方法 CN200510089424佳能株式会社日本东京　
固化性树脂组合物以及使用该固化性树脂组合物制造的胶版印刷版材 CN200380107368可乐丽股份有限公司日本冈山县　
辐射敏感性树脂组合物 CN200380107753JSR株式会社日本东京　
正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 CN200380107529东京应化工业株式会社日本神奈川县　
碱溶解型光刻用形成填隙材料的组合物 CN200380107353日产化学工业株式会社日本东京都　
测量照明系统性能的方法 CN200380107907皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
确定最佳工艺窗口的最佳工艺设定的方法,该最佳工艺窗口优化了确定光刻工艺最佳工艺窗口的工艺性能 CN200380107934皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
柱状喷洒显影和雾状喷洒显影互换的显影装置 CN200420055404沈阳芯源先进半导体技术有限公司110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号　
介电片和光敏介电组合物及介电带的使用方法 CN200510091139E.I.内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法 CN200510098086三星电子株式会社韩国京畿道　
隔离物用感光性树脂组合物 CN200510090024东进世美肯株式会社韩国仁川市　
用于半导体器件制造的掩模图形及形成掩模图形的方法以及制造精细地构图的半导体器件的方法 CN200510087449三星电子株式会社韩国京畿道水原市　
光刻装置及光刻装置的制造方法 CN200510088258因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
光刻装置、包括照明系统的装置以及器件制造方法 CN200510091134ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
印刷版成像装置和隔行光栅扫描线法 CN200510091679海德堡印刷机械股份公司德国海德堡　
用于通过数字成像制作用于报纸印刷的柔性版印版的装置和方法 CN200380108369XSYS印刷解决方案德国有限公司德国斯图加特　
用于集成电路孔图的先进定向辅助部件 CN200510088878旺宏电子股份有限公司中国台湾　
成型加工用片材和其制造方法、成像方法、成型加工制品的制造方法和成型加工制品 CN200510084470富士施乐株式会社日本东京　
平版印刷版原版 CN200510091689富士胶片株式会社日本神奈川县　
平版印刷版原版 CN200510091990富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光浆状组合物、使用该组合物生产的PDP电极和包含该PDP电极的PDP CN200510109805三星SDI株式会社韩国京畿道　
用于浸渍光刻技术的组合物和工艺 CN200510109853罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
抑制光学元件的各症状对成像的不利影响的方法和机构 CN200510055497卡西欧迈克罗尼克斯株式会社日本国东京都　
超紫外线光刻的多层镜射保护 CN200510087957因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
光刻设备和制造器件的方法 CN200510091792ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
防护胶膜框架及利用此框架的光刻用防护胶膜组件 CN200510092419信越化学工业株式会社日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200510093924ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备和器件制造方法 CN200510109896ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
显像装置和显像方法 CN200510090339东京毅力科创株式会社日本东京都　
晶片烘烤装置 CN200510090944三星电子株式会社韩国京畿道　
在角部利用倒角与修圆的光学邻近校正 CN200510074132ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
利用具有碳层的传输掩模构图晶片上的光刻胶的方法 CN200480002239飞思卡尔半导体公司美国得克萨斯　
用于掩模修复的电子束处理技术 CN200480002281FEI公司美国俄勒冈州　
光掩模铬版激光微修补送粉装置 CN200420120299北京工业大学100022北京市朝阳区平乐园100号　
利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构 CN200410057117盟图科技股份有限公司台湾省台北县新竹科学工业园区科技五路六号　
石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法 CN200510060784浙江大学310027浙江省杭州市玉古路20号　
光罩及其制造方法 CN200510106466广辉电子股份有限公司台湾桃园县　
图形化掩模保持设备和使用两个保持系统的方法 CN200510091569ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法 CN200510106370东京应化工业株式会社日本神奈川县　
校正光刻工艺的方法以及叠合记号的形成方法 CN200410068274茂德科技股份有限公司台湾省新竹科学工业园　
光学微机电元件及其制造方法 CN200410068511华新丽华股份有限公司台湾省台北市民生东路三段117号12楼　
曝光装置 CN200510071774LG电子株式会社韩国首尔　
微细结构体的制造方法、曝光装置、电子仪器 CN200510075901精工爱普生株式会社日本东京　
用以减低浸入式光刻系统中移动所导致的扰动的系统与方法 CN200510096718ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
由旋涂上的陶瓷薄膜组成的构图层 CN200480002867国际商业机器公司美国纽约　
光掩模以及在其上制造保护层的方法 CN200380109153凸版光掩膜公司美国德克萨斯州　
能正性成像的厚膜组合物 CN200380109235纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
抗蚀剂组合物 CN200480002955东京应化工业株式会社日本神奈川县　
厚膜膏料层的粘合剂扩散转印图案 CN200480002598纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
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