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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
丝印网点印刷工艺 CN200510034943广西真龙彩印包装有限公司542700广西壮族自治区贺州市富川瑶族自治县富阳镇民族路12号　
一种光学引擎和带该引擎的热敏激光制版机及制版方法 CN200510060982杭州科讯印刷设备有限公司310013浙江省杭州市西湖区杨家牌楼313号　
热敏激光雕刻机及其雕刻方法 CN200510060983杭州科讯印刷设备有限公司310013浙江省杭州市西湖区杨家牌楼313号　
抗蚀图案的形成方法以及使用该方法的微细图案的形成方法以及液晶显示元件的制造方法 CN200510084538东京应化工业株式会社日本神奈川县　
正型感光性组合物 CN200510095993富士胶片株式会社日本神奈川县　
顶部抗反射涂布组合物及用其形成半导体装置图案的方法 CN200510092115海力士半导体有限公司韩国京畿道　
用于涂敷光刻胶的装置和方法 CN200510080129LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
通过曝光临界能量值来进行曝光计量器校正的方法 CN200410054226上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
基于微电子机械系统技术的红外光源及制备方法 CN200410073801中国科学院电子学研究所100080北京市海淀区北四环西路19号　
曝光用光源 CN200510099081三荣技研株式会社日本兵库县　
曝光机的浮动下框装置 CN01258613梁茂忠510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号志圣科技(广州)公司　
曝光机紫外线灯反射罩的装置 CN01258614梁茂忠510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号志圣科技(广州)公司　
等量光扫平版晒版机 CN01261560李化建;谢瑞勇272000山东省济宁市文大街4号　
含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物 CN01801511希普雷公司美国马萨诸塞　
照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模 CN01801565日本制纸株式会社日本东京　
用于涂膜层显影的表面活性剂水溶液 CN01802203克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
抗蚀剂抗反射涂层组合物 CN01802441希普列公司美国马萨诸塞州　
形成光学图象的方法、用于本方法的掩模、用本方法制造器件的方法及实施本方法的设备 CN01802498皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
感光性聚硅氮烷组合物、采用该组合物形成图案的方法及烧结其涂层膜的方法 CN01802578克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
有放射线敏感性的折射率变化性组合物及折射率变化法 CN01802620捷时雅株式会社日本东京都　
感光组合物、固化制品以及利用它的印刷电路板 CN01802696昭和电工株式会社日本东京　
光致抗蚀剂显影液 CN01802828德山株式会社日本山口　
感光树脂凸版印刷板的显影方法和装置 CN01803126旭化成株式会社日本大阪　
使用空间光调制器的图形产生系统 CN01803213微激光系统公司瑞典泰比　
感光性树脂组合物 CN01803259克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
用于i-线的高分辨率感光性树脂组合物和形成图案的方法 CN01804830克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
使用空气影像仿真器来评估掩模影像的方法 CN01805731先进微装置公司美国加利福尼亚州　
精制显影液制造装置及精制显影液制造方法 CN02103474株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社日本神奈川　
显影液制造装置及显影液制造方法 CN02103475长濑产业株式会社;株式会社平间理化研究所;长濑CMS科学技术株式会社日本大阪　
光掩模的修正方法和半导体器件的制造方法 CN02103537株式会社东芝;大日本印刷株式会社日本东京都　
投影光学系统以及具备此投影光学系统的曝光装置 CN02103545尼康股份有限公司日本东京都　
预增感平版印刷版 CN02105261富士胶片株式会社日本国神奈川县　
一种交替式相位移光罩 CN02131930联华电子股份有限公司台湾省新竹市　
一种主动光学接近修正法 CN02131931联华电子股份有限公司台湾省新竹市　
颜色分色方法及其印刷产品 CN03122305韦尔豪泽公司美国华盛顿　
制造用于纳米压印光刻的亚光刻尺寸线和间隔图案的方法 CN03122450惠普公司美国加利福尼亚州　
平版印刷设备、器件制造方法以及由此制造的器件 CN03123208ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
驱动装置、曝光装置及器件制造方法 CN03122043佳能株式会社日本东京　
感光性平板印刷板 CN03110685富士胶片株式会社日本神奈川县　
电子装置的制造方法及其制造装置 CN03110676精工爱普生株式会社日本东京　
平版印刷设备及器件的制造方法 CN03136771ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
掩模和电发光装置及其制造方法，以及电子仪器 CN03123132精工爱普生株式会社日本东京都　
酚醛清漆树脂溶液、正型光致抗蚀剂组合物及其调制方法 CN03123145东京应化工业株式会社日本神奈川县　
投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 CN03122206尼康株式会社日本东京都　
光掩模传送支撑座及光掩模传送方法 CN03110166力晶半导体股份有限公司台湾省新竹市　
辐射敏感树脂组合物，形成有图案绝缘膜的形成方法，装配有该膜的有源矩阵板和平板显示设备，和生产平板显示设备的方法 CN03152470夏普株式会社;JSR株式会社日本大阪　
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 CN03121921尼康株式会社日本东京都　
投影光学系统、其制造方法、曝光装置及曝光方法 CN03121915尼康株式会社日本东京都　
化学增幅光阻剂组成物 CN03110144台湾永光化学工业股份有限公司台湾省台北市　
器件制造方法及其制得的器件与计算机程序 CN03136807ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置及曝光方法 CN03121815尼康株式会社日本东京都　
化学增幅光阻剂组成物 CN03110103美国永光公司美国北卡罗来纳州　
光刻胶剥离除去方法及装置 CN03109544财团法人激光技术综合研究所;东洋精密工业株式会社日本大阪府　
曝光方法及装置 CN03110416株式会社液晶先端技术开发中心日本神奈川县横浜市　
光罩制程及薄膜晶体管的制造方法 CN03114203鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
曝光系统 CN03109376显像制造服务股份有限公司韩国京畿道　
消除密集图案与单一图案的关键尺寸偏差的方法 CN03109379旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
光刻装置、器件制造方法及其制得的器件 CN03136806ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正型感光性涂料组合物、正型感光性树脂的制造方法及图形的形成方法 CN03142795关西涂料株式会社日本兵库县　
曝光装置 CN03108649佳能株式会社日本东京　
感光性印刷原版 CN03107710东洋纺织株式会社日本国大阪府　
带厚度测量系统的旋转刻蚀器 CN03121273韩国DNS株式会社韩国忠清南道天安市　
加热装置 CN03107756爱斯佩克株式会社日本大阪　
大面积光罩以及具有此大面积光罩的曝光系统 CN03121563显像制造服务株式会社韩国京畿道水原市　
电荷束曝光装置、采用电荷束的曝光方法、电荷束的控制方法和半导体器件的制造方法 CN03121474株式会社东芝日本东京都　
新颖感光化合物，感光树脂，和感光组合物 CN03108358东洋合成工业株式会社日本千叶县　
光罩组合及其形成细线图案的曝光方法 CN03121435台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
抗蚀剂剥离剂 CN03800355美录德有限公司日本东京都　
监测、曝光、腐蚀方法、半导体器件制造方法及曝光装置 CN03121354株式会社东芝日本东京都　
光掩模、聚焦监视方法、曝光量监视方法和半导体器件的制造方法 CN03121360株式会社东芝日本东京都　
正型化学放大型光阻组成物 CN03121330住友化学工业株式会社日本大阪市　
光刻装置和器件的制作方法 CN03128643ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
利用双极照明进行基于规则的栅极缩小的方法和装置 CN03128638ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光性平版印刷版 CN03107398富士胶片株式会社日本神奈川县　
利用二倍空间频率技术定义掩膜图案的方法及其装置 CN03130766ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏膏 CN03107913住友化学工业株式会社日本国大阪府　
双层光阻的形成方法及其应用 CN03107298旺宏电子股份有限公司台湾省新竹市　
光致抗蚀剂残渣除去液组合物 CN03108247关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司日本东京　
红外敏感的光敏组合物 CN03107477富士胶片株式会社日本社奈川县　
低成本光刻技术 CN03108107张国飙610051四川省成都市跳蹬河邮局001信箱　
光刻装置和器件的制作方法 CN03128629ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
1,2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂、制备该光敏剂的方法和光致抗蚀剂组合物 CN03110712东洋合成工业株式会社日本千叶县　
在连续相中包含合成粘度改进剂的光敏微胶囊 CN03119973伊斯曼柯达公司美国纽约州　
相移转光罩的结构 CN03121652联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
光刻设备和装置的制作方法 CN03128607ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
防止产生光阻残渣的方法 CN03119435台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
微影系统中反应负荷的管理方法、系统及设备 CN03120082ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻胶剥离组合物及清洗组合物 CN03120076三菱瓦斯化学株式会社日本东京　
用以显影液晶显示器的装置与方法 CN03119536显像制造服务股份有限公司韩国京畿道　
曝光方法及曝光装置 CN03119533尼康株式会社日本东京都　
衬底处理装置和衬底处理方法 CN03122663东京毅力科创株式会社日本东京都　
材料去除方法、基体材料再生方法及显示器件制造方法 CN03120121精工爱普生株式会社日本东京都　
光源元件、照明装置、曝光装置及曝光方法 CN03107145尼康株式会社日本东京都　
基底曝光方法和用于该方法的装置 CN03120221三星TECHWIN株式会社韩国庆尚南道　
光刻用掩模及其制法和光刻设备与器件制法 CN03110769ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于改进相移掩模成像性能的装置和系统及其方法 CN03122612ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
光致抗蚀剂组合物 CN03110718希普利公司美国马萨诸塞州　
光致抗蚀剂组合物 CN03110717希普利公司美国马萨诸塞州　
曝光方法及装置 CN03120289株式会社液晶先端技术开发中心日本国神奈川县横滨市　
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