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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
抗蚀剂组合物 CN03107058旭硝子株式会社日本东京　
多层高深宽比硅台阶深刻蚀方法 CN03104780北京大学100871北京市海淀区颐和园路5号　
传送贮藏箱中掩模或基片的方法和所用设备及其制造方法 CN03110781ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
对准方法,对准基底,光刻装置和器件制造方法 CN03110779ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光掩模的制造方法和使用该光掩模的半导体装置制造方法 CN03105272株式会社东芝日本东京都　
感光树脂组合物 CN03804109AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
使用两件式盖子保护模版的系统和方法 CN03142306ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
使用双波长形成自动对准图案的方法 CN03802528先进微装置公司美国加利福尼亚州　
抗蚀剂材料和微加工方法 CN03800287索尼公司日本东京都　
应用于接触窗制程的光罩及其接触窗制程 CN03103771友达光电股份有限公司台湾省新竹市科学工业园区　
含有酮、醛共聚合物的酸分解性树脂组合物 CN03803779日本曹达株式会社日本东京都　
曝光装置、曝光方法，以及使用该曝光装置和方法的器件制造方法 CN03104107佳能株式会社日本东京　
光刻装置、对准方法和器件制造方法 CN03130765ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
印刷电路板显影机除泡装置 CN03237187扬博科技股份有限公司中国台湾　
光刻装置和器件制造方法 CN03124367ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
化学处理装置 CN03104302日本网目版制造株式会社日本京都府　
利用间隔体技术的纳米尺寸压印模 CN03103150惠普公司美国加利福尼亚州　
惰性气体置换方法和装置、曝光装置及标线片装置 CN03102324佳能株式会社日本东京　
曝光装置及其用以制作彩色滤光片的方法 CN03103430奇美电子股份有限公司台湾省台南县　
光刻装置和器件制造方法 CN03110533ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN03110534ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
有机抗反射涂层组合物和用该组合物形成光阻图案的方法 CN03103572海力士半导体有限公司韩国京畿道　
掩膜元件，用此元件制备掩膜的方法和用此掩膜制备感光树脂印版的方法 CN03128601琳得科株式会社日本东京都　
基板处理方法和装置、显影方法及半导体装置的制造方法 CN03102209株式会社东芝日本东京都　
激光装置、曝光装置及方法 CN03103027佳能株式会社日本东京　
感光性树脂组合物 CN03103415住友化学工业株式会社日本国大阪府　
磺酸衍生物及其作为潜酸的用途 CN03803305西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
增感色素的制造方法及使用其的感光性组合物 CN03101915富士胶片株式会社日本神奈川县　
包括微米和亚微米特征的半导体等器件的光机械特征制作 CN03103377惠普公司美国加利福尼亚州　
一种抗蚀图形改进材料以及使用该材料制备抗蚀图形的方法 CN03101768富士通株式会社日本神奈川　
多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法 CN03101762财团法人工业技术研究院;长春人造树脂厂股份有限公司台湾省新竹县　
可抵减透镜像差影响的微影方法 CN03100750南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
钢基PS版 CN03115009上海通生印刷器材有限公司200082上海市辽阳路25号　
制作一金属图案的方法 CN03101575友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置 CN03101593ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法 CN03100275吉埈仍;任兴彬韩国京畿道　
一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物 CN03802089克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
曝光装置以及曝光方法 CN03100263尼康株式会社日本东京都　
负性作用可光成像底部抗反射涂层 CN03802097科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
负性深紫外光刻胶 CN03802066科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法 CN03802091科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
光罩与应用其形成多晶硅层的方法 CN200510004161友达光电股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路一号　
一种分色页面描述灰度光栅化的方法 CN200510000588北京北大方正电子有限公司;北京大学100085北京市海淀区上地五街9号方正大厦　
光刻装置，器件制造方法，掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法 CN200410045162ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，设备制造方法和角编码器 CN200410047720ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
图像形成用感光性树脂组合物 CN200410036984株式会社日本触媒日本大阪府　
光刻处理方法，和由此制造的器件 CN200410045155ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
基底载体及其制造基底载体的方法 CN200410045195ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
黑色感光性树脂组合物 CN200410047744住友化学工业株式会社日本大阪府　
照明器控制的影调反转印刷 CN200410047734ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置 CN200410036864ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
平板印刷设备、器件制造方法和计算机程序 CN200410036874ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于EUV光刻的掩模版及其制作方法 CN200410036877肖特玻璃制造厂联邦德国美因茨　
微光学器件数字分形掩模制作方法 CN200410017769南昌航空工业学院;中国人民解放军国防科学技术大学330034江西省南昌市上海路南昌航空工业学院　
感光性树脂转印装置以及方法 CN200410035308富士胶片株式会社日本神奈川县　
曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法 CN200410032706三星电子株式会社韩国京畿道　
投影系统及利用该投影系统的方法 CN200410032892ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
聚二甲基硅氧烷微流控芯片复型光固化树脂模具制作方法 CN200410073433西安交通大学710049陕西省西安市咸宁路28号　
一种用于凹印制版的无缝混合网点挂网方法 CN200410101653北京北大方正电子有限公司;北京大学100085北京市海淀区上地五街九号方正大厦　
一种用于打印机的线圆形网点的生成方法 CN200410101652北京北大方正电子有限公司;北京大学100085北京市海淀区上地五街九号方正大厦　
图形形成方法 CN200410102205松下电器产业株式会社日本大阪府　
光刻装置及器件制造方法 CN200410100796ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
抗蚀图案的剥离方法 CN200410098395东京应化工业株式会社日本神奈川县　
抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法 CN200410100312东京应化工业株式会社日本神奈川县　
真空负压纳米压印方法 CN200410089276上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
真空负压纳米压印装置 CN200410089275上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
危险图形抽出方法、程序和半导体器件的制造方法 CN200410097003株式会社东芝日本东京都　
无铬膜层相位移光罩及其制造方法与制造半导体装置方法 CN200410100630台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
光刻装置及器件制造方法 CN200410100063ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种柔性光学传感器的制作方法 CN200410061274华中科技大学430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号　
光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法 CN200410010444ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
开环易位共聚物氢化物及其制造方法 CN200410091274三井化学株式会社日本国东京都　
制备基底的方法，测量方法，器件制造方法，光刻装置，计算机程序和基底 CN200410100027ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
屏蔽的避免像差屏蔽布局的制造方法 CN200410097363因芬尼昂技术股份公司联邦德国慕尼黑　
感光性组合物以及滤色器 CN200410047192东洋油墨制造株式会社;凸版印刷株式会社日本东京都　
包括其中的遮蔽元件的光掩模及相关的方法与系统 CN200410096351三星电子株式会社韩国京畿道　
用x射线曝光制造不同深宽比的微机械构件的方法 CN200410084556上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
干膜光致抗蚀剂 CN200410094976富士胶片株式会社日本神奈川县　
多层超微压印平版印刷 CN200410095336奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
光刻胶三维刻蚀过程模拟的动态元胞自动机方法 CN200410065791东南大学210096江苏省南京市四牌楼2号　
带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系 CN200410090474国际商业机器公司美国纽约　
在晶体内部写入套刻光栅的方法 CN200410084248中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市800-211邮政信箱　
对应于基板伸缩的印刷电路板用曝光装置 CN200410091243株式会社阿迪泰克工程日本东京　
光刻装置和器件制造方法 CN200410094716ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
优化偏振照明 CN200410094712ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
电光装置、电光装置用基板及制造方法、曝光掩模及电子设备 CN200410088963精工爱普生株式会社日本东京都　
含有无机粉体的树脂组合物、转印膜和等离子体显示屏的制造方法 CN200410090708JSR株式会社日本国东京都　
辐射检测器 CN200410100577ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410092232ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法 CN200410092233ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
适用于液体浸润式微影中的具抗腐蚀层的接物透镜 CN200410090287台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
电光装置用基板、电光装置及其制造方法、和电子设备 CN200410087198精工爱普生株式会社日本东京都　
光刻装置及器件制造方法 CN200410090371ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410090370ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410090372ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
扫描仪线性测试器 CN200410090091三星电子株式会社韩国京畿道　
使用增强的干涉映象光刻技术的特征最优化 CN200410103875ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410090535ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
印刷电路板的制造方法 CN200410086275富士胶片株式会社日本神奈川县　
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