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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光刻装置 CN200410095181ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410087957ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司荷兰维尔德霍芬　
在用于光电子器件的III-V族化合物中蚀刻光滑侧壁的方法 CN200410086335安捷伦科技有限公司美国加利福尼亚州　
执行基于模型的光学邻近校正的方法 CN200410087011国际商业机器公司美国纽约　
扩展光刻模拟积分范围的方法 CN200410087085国际商业机器公司美国纽约　
光刻设备和器件制造方法以及测量系统 CN200410087731ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
着色感光性树脂组合物 CN200410086521住友化学株式会社日本东京都　
执行基于模型的光邻近校正的方法 CN200410086091国际商业机器公司美国纽约　
执行基于模型的光学邻近校正的方法 CN200410086090国际商业机器公司美国纽约　
执行基于模型的光刻校正的方法 CN200410086089国际商业机器公司美国纽约　
组件、光刻装置和器件制造方法 CN200410087740ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光刻装置以及器件制造方法 CN200410095148ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
控制蚀刻工序的精确度和再现性的方法 CN200410083770应用材料有限公司美国加州　
光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法 CN200410067239上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
图案的形成 CN200410088187罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
利用纳米球模板制备单元尺寸可控的纳米点阵列的方法 CN200410083939清华大学100084北京市100084-82信箱　
用于去除感光树脂的稀释剂组合物 CN200410080739东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
光掩模及图案形成方法 CN200410084972松下电器产业株式会社日本大阪府　
排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410083384东京应化工业株式会社日本神奈川县　
曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置 CN200410081165株式会社东芝日本东京都　
感光性树脂组合物以及使用其的图案形成方法 CN200410095130东京応化工业株式会社日本川崎市　
光掩模及其制造方法和使用光掩模的半导体装置制造方法 CN200410085582株式会社瑞萨科技日本东京都　
用于给反射镜提供动态保护层的方法和设备 CN200410090329ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
蚀刻方法和记录用于控制该方法的程序的计算机记录媒体 CN200410080670东京毅力科创株式会社日本东京都　
薄片和薄片用框 CN200410083325旭化成电子株式会社日本东京　
化学放大型正光刻胶组合物及其树脂 CN200410083191住友化学工业株式会社日本国大阪府　
用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物 CN200410080378国际商业机器公司美国纽约　
光刻装置及器件制造方法 CN200410012023ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于平版印刷版的载体和预敏化版 CN200410011875富士胶片株式会社日本神奈川县　
厚外延层上进行投影光刻的方法 CN200410083009中国电子科技集团公司第二十四研究所400060重庆市南岸区南坪花园路14号　
光刻装置和器件制造方法 CN200410087446ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件 CN200410082568ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
预敏化版和平版印刷方法 CN200410082556富士胶片株式会社日本神奈川县　
抗蚀图的形成方法、制造母版信息载体的方法和磁记录介质 CN200410079817松下电器产业株式会社日本大阪府　
衬底的处理方法及用于该方法的药液 CN200410082500NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
光刻装置和器件制造方法 CN200410078782ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏平版印刷版及其制备方法 CN200410078677富士胶片株式会社日本神奈川县　
自适应的光刻临界尺寸增强 CN200410078927ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
印刷版材料、印刷版原版、印刷版的制作方法、印刷方法以及印刷版材料的制造方法 CN200410078595柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社日本东京都　
步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统 CN200410066384上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
对准标记的形成方法、构成器件的基板、以及使用该基板的液体排出头 CN200410078912佳能株式会社日本东京　
光学元件的形成方法 CN200410077147罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
衬底曝光方法和光刻投影设备 CN200410079133ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
图像记录材料和平版印刷版 CN200410076845富士胶片株式会社日本神奈川县　
衰减相移掩模坯件和光掩模 CN200410068751肖特股份有限公司;国际商业机器公司联邦德国美因茨　
光刻装置和器件制造方法 CN200410068653ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法 CN200410068656ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 CN200410068341东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光刻装置和器件制造方法 CN200410074853ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200410074855ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，器件制造方法以及由此制造的器件 CN200410074867ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光聚合组合物和图像记录材料 CN200410074834富士胶片株式会社日本神奈川县　
图像记录材料和平版印刷版 CN200410074832富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置和器件制造方法 CN200410068266ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物和方法 CN200410076979LG.菲利浦 LCD有限公司;东进瑟弥侃株式会社韩国汉城　
将表膜框架贴附到调制盘 CN200410068558英特尔公司美国加利福尼亚州　
排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410057944东京应化工业株式会社日本神奈川县　
图像记录装置 CN200410057890大日本网目版制造株式会社日本京都府　
控制液体假配发的方法与系统 CN200410056831台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾　
蚀刻方法及使用蚀刻方法的电路装置的制造方法 CN200410057581三洋电机株式会社日本大阪府　
投影曝光设备 CN200410058589株式会社阿迪泰克工程日本东京　
基于硅衬底的聚合物光波导器件的制作方法 CN200410053794浙江大学310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号　
感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法 CN200410058396富士胶片株式会社日本神奈川县　
平版印刷板材料和平版印刷板材料的制备方法 CN200410056684柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社日本东京都　
光刻装置和装置调节方法 CN200410057883ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
浸没式光刻系统和制造半导体元件的方法 CN200410058067台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
用于电子束投影光刻系统的发射器及其制造和操作方法 CN200410056446三星电子株式会社韩国京畿道　
带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法 CN200410056333佳能株式会社;株式会社日立高新技术日本东京　
抗蚀剂聚合物，抗蚀剂组合物和布线图案制作方法 CN200410098151信越化学工业株式会社日本东京　
薄膜晶体管的制造方法 CN200410055874友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
基于旋涂和键合实现微纳米图案转移的方法 CN200410053487上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
图形制造系统、曝光装置及曝光方法 CN200410058860富士胶片株式会社日本神奈川县　
多层反射远紫外线光刻掩模坯件 CN200410058768英特尔公司美国加利福尼亚州　
用于除去感光树脂的稀释剂组合物 CN200410070223东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化 CN200410058823ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻抗反射硬掩模合成物及其使用 CN200410058814国际商业机器公司美国纽约　
碱溶性聚合物及其可聚合组合物 CN200410058731富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件 CN200410054553ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
包含光敏酸发生物质单体的组合物及用其包被的载体及其应用 CN200410054537三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻装置和器件制造方法 CN200410059083ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正型光致抗蚀剂组合物 CN200410071372东京应化工业株式会社日本神奈川县　
微透镜的制造方法 CN200410054485三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻装置及器件制造方法 CN200410054512ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、器件制造方法和由此制造的器件 CN200410054515ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻构图装置的保险机构 CN200410068411ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂组合物 CN200410069631海力士半导体有限公司韩国京畿道　
光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法 CN200410069634海力士半导体有限公司韩国京畿道　
光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物 CN200410069633海力士半导体有限公司韩国京畿道　
光刻装置以及器件制造方法 CN200410064067ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
图案形成法和光学元件 CN200410064064JSR株式会社日本东京都　
光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件 CN200410071212ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
着色感光性树脂组合物 CN200410071208住友化学工业株式会社日本大阪府　
平板印刷板前体和平板印刷方法 CN200410063829富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻胶修整方法 CN200410062491北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼　
用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置 CN200410063495ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光致抗蚀的保护涂层组合物和用其形成光致抗蚀图案的方法 CN200410063569海力士半导体有限公司韩国京畿道　
去除TFT-LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物 CN200410062400东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
曝光装置 CN200410063325佳能株式会社日本东京　
光刻用掩模护层 CN200410062426信越化学工业株式会社日本东京都　
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