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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光刻投影装置和器件制造方法 CN200410063230ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光组成物及使用感光组成物制作的平印版 CN200410010380乐凯集团第二胶片厂473003河南省南阳市车站南路718号　
加热处理装置的温度校正方法、显影处理装置的调整方法和半导体器件的制造方法 CN200410062569株式会社东芝日本东京都　
灰调掩模的制造方法和灰调掩模 CN200410062541HOYA株式会社日本东京　
灰调掩模的制造方法 CN200410062538HOYA株式会社日本东京　
利用象场图产生辅助特征的方法、程序产品和装置 CN200410064076ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于次半波长光刻构图的改善的散射条OPC应用方法 CN200410064094ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置 CN200410055272ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统 CN200410061767ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 CN200410059459东友FINE-CHEM株式会社韩国全罗北道益山市　
光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 CN200410059458东友FINE-CHEM株式会社韩国全罗北道益山市　
带有平衡块消振装置的超精密硅片定位系统 CN200410009257清华大学100084北京市100084-82信箱　
光刻装置的校准方法和器件制造方法 CN200410055004ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200410055065ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统 CN200410055044ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有主支柱和辅助支柱的模版掩模及其形成方法 CN200410059845三星电子株式会社韩国京畿道水原市　
用于使得存储器阵列区域小型化的布局方法 CN200410059848尔必达存储器株式会社;株式会社日立ULSI系统日本东京　
使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法 CN200410060062ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
一种在普通实验室条件下制作玻璃芯片的方法 CN200410049750清华大学100084北京市海淀区清华大学化学系　
光刻装置及集成电路制造方法 CN200410061804ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂聚合物与含有该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂化合物 CN200410061832海力士半导体有限公司韩国京畿道　
用于无掩模光刻的投射光学系统 CN200410061680ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光聚合型平版印刷版 CN200410059863富士胶片株式会社日本神奈川县　
以感光性ITO溶液形成ITO图案的方法 CN200410061613中华映管股份有限公司台湾省台北市　
热绝缘的光学装置 CN200410059398英特尔公司美国加利福尼亚州　
正型感光性树脂组合物、树脂膜的制造方法、半导体装置和显示元件及其制造方法 CN200410060037住友电木株式会社日本东京都品川区　
光刻装置和器件制作方法 CN200410068448ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法 CN200410059735ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法 CN200410048106台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
一种纳米图形以及碳纳米管生物纳米芯片的制备方法 CN200410049025韩国科学技术院韩田大田广域市　
用于显示面板的垫片、辐射敏感树脂组合物和液晶显示器 CN200410071471JSR株式会社日本东京都　
正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410049012东京应化工业株式会社日本神奈川县　
基板型显像装置 CN200410055030东京応化工业株式会社日本川崎市　
光敏金属纳米颗粒和用其形成导电图案的方法 CN200410048459三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻装置和器件制造方法 CN200410047698ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法 CN200410046271富士胶片株式会社日本神奈川县　
曝光装置的曝光方法 CN200410048823株式会社ORC制作所日本东京　
正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 CN200410045257东京应化工业株式会社日本神奈川县　
利用超分子的自组装和金属化合物着色制备碳纳米管芯片和生物芯片的方法 CN200410046286韩国科学技术院韩国大田广域市　
基板处理装置及基板交接位置的调整方法 CN200410048415东京毅力科创株式会社日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200410047827ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置 CN200410047824ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
布线保护膜形成用组合物及其用途 CN200410046202三井化学株式会社日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200410071464ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
使用包括衍射光学元件的照明系统制造半导体器件的方法 CN200410047258三星电子株式会社韩国京畿道　
在无掩模微影术系统中产生灰度调整的系统和方法 CN200410047668ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法 CN200410047674日立环球储存科技荷兰有限公司荷兰阿姆斯特丹　
使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法 CN200410047667ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻设备和校准方法及器件制造方法 CN200410047658ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于设计数字变形线条网屏的系统和方法 CN200410047492施乐公司美国康涅狄格州　
系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410045732东京应化工业株式会社日本神奈川县　
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410045733东京应化工业株式会社日本神奈川县　
带状工件的两面投影曝光装置 CN200410047570优志旺电机株式会社日本东京都　
光刻装置以及器件制造方法 CN200410063115ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
大型薄壳的支撑装置及附属装置 CN200410063178旭化成电子株式会社日本东京　
光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法 CN200410042367株式会社东芝日本东京都　
用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底 CN200410071477ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410044681东京应化工业株式会社日本神奈川县　
可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩母片 CN200420059606台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩制作方法 CN200410042423台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410044796东京应化工业株式会社日本神奈川县　
平版印刷装置和设备的制造方法 CN200410063908ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410044710东京应化工业株式会社日本神奈川县　
系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410044713东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光刻装置，器件制造方法以及该方法制造的器件 CN200410059589ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
校准光刻装置的方法,对准方法，计算机程序，光刻装置和器件制造方法 CN200410063907ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法 CN200410043262ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
利用多投影掩模制造多个电路图案的方法和设备 CN200410043256艾格瑞系统有限公司美国宾夕法尼亚　
基于厚胶光刻的三维微结构加工方法 CN200410018286上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件 CN200410059508ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
确定工艺步骤的特征的方法和器件制造方法 CN200410059558ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件 CN200410044589ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂组合物及其制备方法 CN200410059567纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法 CN200410055027ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
去除光罩遮光缺陷的方法及其半导体装置的制造方法 CN200410038131台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
黑色矩阵用感光性树脂组成物 CN200410042228奇美实业股份有限公司台湾省台南县仁德乡三甲村59-1号　
光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件 CN200410047781ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，器件制造方法和由此制造的器件 CN200410059599ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
表面处理装置 CN200410037297东京毅力科创株式会社日本东京都　
光敏组合物及其使用的新型化合物 CN200410031934富士胶片株式会社日本神奈川县　
印刷原版用冲孔装置 CN200410031931株式会社安来制作所;日立金属株式会社日本国岛根县　
排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法 CN200410031928东京应化工业株式会社日本神奈川县　
照明源和掩模优化 CN200410038769ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于传送物体的传送设备及其使用方法以及包含这种传送设备的光刻投影设备 CN200410031852ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光刻设备的支撑结构 CN200410031854ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
着色光敏树脂组合物 CN200410035299住友化学工业株式会社日本大阪府　
化学放大型光刻胶组合物 CN200410038704住友化学工业株式会社日本大阪府　
黑色矩阵用感光性树脂组成物 CN200410032208奇美实业股份有限公司台湾省台南县仁德乡三甲村59-1号　
激光光绘机负压式全自动上下片装置 CN200410003468清华大学100084北京市北京100084-82信箱　
光掩模用基板、光掩模坯料及光掩模 CN200410029638HOYA株式会社日本东京　
图案绘制装置 CN200410031310大日本网目版制造株式会社日本京都府　
透明着色组合物及滤色器 CN200410032331户田工业株式会社日本广岛县　
曝光装置 CN200410008889富士胶片株式会社日本神奈川县　
固化树脂图案的形成方法 CN200410038703住友化学工业株式会社日本大阪府　
回收平版印刷工具中所用气体的方法和装置 CN200410030147ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统 CN200410030444TDK股份有限公司日本东京　
干燥薄膜光阻剂 CN200410029534美商长兴科技公司美国弗吉尼亚　
光掩膜及漫反射板 CN200410039930彩辉科技股份有限公司日本东京　
曝光装置和象差校正方法 CN200410028478佳能株式会社日本东京　
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