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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件 CN200410008082ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件 CN200410008076ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法 CN200410035209ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于对物体进行辐射的粒子-光学装置 CN200410035221FEI公司美国俄勒冈州　
一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备 CN200410032688ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
维护机器部件的方法和装置 CN200410032686ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法 CN200410032685ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法 CN200410032672ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投影装置中的聚焦疵点监测 CN200410032659ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光材料的排放部件和涂覆装置以及涂覆感光层的设备 CN200410071436三星电子株式会社韩国京畿道　
用于操纵和传送计量光束的器件和方法 CN200410008016ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200410008010ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置中质量体的位置控制 CN200410028619ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
聚合物和含有该聚合物的光刻胶 CN200410055223罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
基板曝光装置 CN200410007805富士胶片株式会社日本神奈川县　
在任意尺寸的柔顺介质上复制高分辨率三维压印图案的方法 CN200410007643惠普开发有限公司美国德克萨斯州　
曝光机构和曝光方法 CN200410006042株式会社ORC制作所日本东京　
器件制造方法和相应的平版印刷设备、机器人系统和程序 CN200410007025ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶 CN200410064070罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
可聚合的组合物 CN200410007009富士胶片株式会社日本神奈川县　
用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法 CN200410028456数字技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
一种用于展宽显示屏幕视角的光学薄膜的制备方法 CN200410004520北京中电金蜂显示技术有限责任公司100089北京市海淀区车道沟1号青东大厦A座　
正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 CN200410005582东京应化工业株式会社日本神奈川县　
电子照相感光体及其制造方法、处理盒、及电子照相装置 CN200410004936佳能株式会社日本东京　
光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备 CN200410004942肖特·格拉斯公司联邦德国美因茨　
用于倾斜灵敏度降低的晶片对准的设备和方法 CN200410039755ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正性光敏组成物 CN200410004243住友化学工业株式会社日本大阪府　
光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法 CN200410005520ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
包括气体冲洗系统的光刻装置 CN200410039750ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法 CN200410035272ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
平版印刷版载体及其生产方法 CN200410003944富士胶片株式会社日本神奈川县　
图案模拟方法及其程序和存储其程序的媒体及其装置 CN200410005306东芝松下显示技术有限公司日本东京　
显示装置的沉积掩模及其制造方法 CN200410003872三星SDI株式会社韩国京畿道　
含有苯酚-亚联苯基树脂的负型光敏树脂组合物 CN200410047730罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
光敏平版印刷版 CN200410004860富士胶片株式会社日本神奈川县　
具有洗边装置的显影机台 CN200410039515友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
图案形成方法 CN200410003604松下电器产业株式会社日本国大阪府　
曝光方法和使用这种方法的半导体器件制造方法 CN200410055265株式会社东芝日本东京都　
光刻掩模、光刻掩模的制造方法以及光刻掩模的制造装置 CN200410004092株式会社瑞萨科技;凸版印刷株式会社日本东京都　
光敏树脂组合物和应用该组合物形成树脂图形的方法 CN200410043008希普雷公司美国马萨诸塞　
含环氧化合物的负型光敏树脂组合物 CN200410047729希普雷公司美国马萨诸塞　
投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 CN200410003753佳能株式会社日本东京　
投影曝光装置 CN200410003749佳能株式会社日本东京　
采用准分子激光制备高聚物基生物芯片微流路结构的方法和系统 CN200410000670北京工业大学100022北京市朝阳区平乐园100号　
抗蚀剂组合物 CN200410002262三菱瓦斯化学株式会社日本东京　
用于EUV波阵面传感器的棋盘式设置中的透射切变光栅 CN200410001918ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法 CN200410002210东京应化工业株式会社日本神奈川县　
在双级打印机上模拟2位每像素打印的方法和装置 CN200410001834国际商业机器公司美国纽约　
用于接触孔掩模的光学逼近校正设计的方法 CN200410006709ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置 CN200410005901ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
全氟聚醚液体薄膜和使用全氟聚醚液体清洁掩模的方法 CN200410005900ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
检测组件和具有这种检测组件的光刻投影装置 CN200410003848ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层 CN200410005084ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光刻装置的水平传感器 CN200410005823ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏性树脂组合物 CN200410002041住友化学工业株式会社日本大阪府　
一种圆柱面光栅光刻刻划机 CN200420011463中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130031 吉林省长春市东南湖大路16号　
表面等离子体共振图像分析金膜点阵列的制备方法 CN200410010620中国科学院长春应用化学研究所130022吉林省长春市人民大街5625号　
光致抗蚀剂脱除剂 CN200410002076三菱瓦斯化学株式会社日本东京　
利用磁力的可拆卸模版窗口和支撑框架 CN200410002057ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法 CN200410002003富士胶片株式会社日本神奈川县　
二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置 CN200410022816中国人民解放军国防科学技术大学410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号国防科技大学机电工程与自动化学院　
用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物 CN200410028333三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 CN02141841东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光活性树脂组合物和线路板及多层陶瓷基材的制造方法 CN02142155株式会社村田制作所日本京都府　
曝光装置及曝光方法 CN02130481尼康株式会社日本东京都　
负性彩色感光组合物 CN02816377日本化药株式会社日本东京　
用于光刻胶的感光树脂组合物 CN02816205东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
光刻胶组合物 CN02148233希普雷公司美国马萨诸塞　
形成光刻用防反射膜的组合物 CN02816299日产化学工业株式会社日本东京都　
红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用 CN02816281西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
曝光装置及曝光方法 CN02128690台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
使用在水溶液中具有高当量电导率的导电材料的抗蚀剂剥离剂组合物 CN02127602株式会社德成韩国京畿道　
调整聚焦位置的方法 CN02127492南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
使用反射掩膜的集成电路 CN02816634自由度半导体公司美国得克萨斯　
金属镶嵌极端远紫外线光刻术用交替型相移光掩膜及制造方法 CN02812088英特尔公司美国加利福尼亚州　
一种光学接近修正方法 CN02126996联华电子股份有限公司台湾省新竹市　
电路板蚀刻机输送装置 CN02241494扬博科技股份有限公司中国台湾　
放射线敏感性电容率变化性组合物和电容率图案形成方法 CN02802574捷时雅株式会社日本东京都　
光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模 CN02817136微相科技股份有限公司美国加利福尼亚州　
正型辐射敏感性组合物以及图形的形成方法 CN02809717JSR株式会社日本东京都　
光敏性树脂组合物 CN02814638西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
衬底处理和光刻胶曝光方法 CN02812661英特尔公司美国加利福尼亚州　
光敏柔性印刷材料及制造报纸用柔性印刷版的方法 CN02815255巴斯福印刷系统公司德国斯图加特　
一种专用于微流控芯片制作的光刻机 CN02274235中国科学院大连化学物理研究所116023辽宁省大连市中山路457号　
亚砜吡咯烷(啉)酮链烷醇胺剥离和清洗组合物 CN02816217EKC技术公司美国加利福尼亚州　
模板和光学特征测量方法 CN02816669佳能株式会社日本东京　
光掩模结构及其制造方法 CN02140920联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
于薄膜晶体管液晶显示器制造过程中的蚀刻方法 CN02141285友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
曝光物体的设备和方法 CN02140172三星电子株式会社韩国京畿道　
叠合标记结构及其测量应用 CN02140147联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
感光树脂组合物以及利用该组合物制作图案的方法和电子元件 CN02813324日立化成工业株式会社日本东京　
非重氮萘醌型阳图PS版感光组合物及阳图热敏CTP版成像组合物 CN02160050北京师范大学100875北京市新外大街19号　
短波长成像用光致抗蚀剂组合物 CN02160084希普利公司美国马萨诸塞州　
平版印刷装置和器件的制造方法 CN02128184ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于在印刷布线板上形成图案的曝光方法和装置 CN02159553新光电气工业株式会社日本长野县　
显影装置及显影方法 CN02160473东京応化工业株式会社日本川崎市　
用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法 CN02826382东京应化工业株式会社日本神奈川县　
一种光刻仪及其器件制造方法 CN02160511ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用微传递技术在聚合物活性表面图案化固定生物大分子的方法 CN02160335浙江大学310027浙江省杭州市西湖区玉古路20号　
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