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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器 CN200310123954ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
器件制造方法 CN200310123957ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、器件的制造方法及由此制得的器件 CN200310121698ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
电子器件的制造 CN200310124961希普雷公司美国马萨诸塞　
可聚合组合物和平版印刷版前体 CN200310123242富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件 CN200310123944ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置 CN200310123918ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，镜元件，器件制造方法，及束传送系统 CN200310120974ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
识别码的激光标记方法及装置 CN200310122324东丽工程株式会社日本大阪府　
具有对准子系统的光刻装置，使用对准的器件制造方法以及对准结构 CN200310121700ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、器件制造方法和由此制造得到器件 CN200310121697ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
准分子激光电化学微结构制造方法及其装置 CN200310111573华中科技大学430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号　
光刻设备和器件制造方法 CN200310120288ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺 CN200310112654无锡市化工研究设计院214031江苏省无锡市运河东路102号　
X射线光刻对准标记 CN200310120546中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
官能化聚合物 CN200310124968希普雷公司美国马萨诸塞　
电光装置用基板、该基板的制造方法及其应用、以及掩模 CN200310121331精工爱普生株式会社日本东京都　
亚波长结构的制造方法 CN200310120397国际商业机器公司美国纽约州　
用于形成共轭聚合物图案的组合物和使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法 CN200310120247三星电子株式会社韩国京畿道　
掩模图形产生方法及掩模图形产生装置 CN200310118267松下电器产业株式会社日本大阪　
具有多孔过滤插入物和加高粘贴表面的胶片框架的方法和设备 CN200310120213ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
多样化产品的黄光制作过程误差校正方法 CN200310120208茂德科技股份有限公司台湾省新竹科学工业园　
水溶性负型光阻及其形成光阻图案的方法 CN200310122533台湾积体电路制造股份有限公司;瑞士商科莱恩国际股份有限公司中国台湾　
确定光刻投影参数的方法、器件制造方法及器件 CN200310122541ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光阻剂的外涂层组合物及使用该组合物形成光阻剂图案的方法 CN200310120313海力士半导体有限公司韩国京畿道　
曝光装置 CN200310120757佳能株式会社日本东京都　
光刻装置，器件制造方法，及由此制成的器件 CN200310119736ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
保持折反射光刻系统以无翻转（非镜面）像的分束器光学设计 CN200310118749ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光致成像波导组合物以及由此构成的波导 CN200310124951希普雷公司美国马萨诸塞　
光刻设备和器件制造方法 CN200310119506ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制作方法 CN200310122295ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
投影光学光刻偏振成像系统 CN200310115503中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
光致抗蚀剂移除组合物 CN200310116832海力士半导体有限公司;东进瑟弥侃株式会社韩国京畿道　
器件制造方法和计算机程序 CN200310124671ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光设备 CN200310117002株式会社阿迪泰克工程日本东京　
正型感光性组合物 CN200310118662株式会社新克日本千叶县　
光刻设备和制造器件的方法 CN200310119662ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
原版、曝光监测方法、曝光方法和半导体器件的制造方法 CN200310115500株式会社东芝日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200310124078ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投射装置及器件制造方法 CN200310123740ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
利用酸的垂直转移进行平版印刷成像的方法 CN200310118361国际商业机器公司美国纽约　
制造光学元件的方法，光刻装置和器件制作方法 CN200310120734ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有多个抑制丝网的光刻投影装置 CN200310119917ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备 CN200310118337ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
多层光致抗蚀剂系统 CN200310124966希普雷公司美国马萨诸塞　
多层光致抗蚀剂系统 CN200310124967希普雷公司美国马萨诸塞　
光致抗蚀剂显影剂组合物 CN200310115315东进半导体化学株式会社韩国仁川广域市　
光刻设备及制造器件的方法 CN200310116157ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
带有给体的光敏剂的用途 CN200310113366中国科学院化学研究所100080北京市海淀区中关村北一街2号　
显影方法及显影装置 CN200310123329东京毅力科创株式会社日本东京都　
用于叠层膜的组合式湿蚀刻方法及系统 CN200310116505NEC液晶技术株式会社日本神奈川县川崎市　
黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台 CN200320112204海泰超导通讯科技（天津）有限公司300384 天津市华苑产业园区物华道2号海泰火炬创业园A座6层　
曝光装置 CN200310118112富士胶片株式会社日本神奈川县　
集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台 CN200310108549上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
器件制造方法及其制出的器件 CN200310116131ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和设备 CN200310123745ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于进行使用偶极子照明的基于模型的设计转换的方法和装置 CN200310123173ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
阳离子光聚合引发剂和可阳离子光聚合的组合物 CN200310123174株式会社德山;德山齿科株式会社日本山口县周南市　
制造微结构的方法 CN200310114283国际商业机器公司美国纽约州　
感光性平版印版 CN200310114267富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置和器件制造方法 CN200310120957ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200310120944ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200310123328ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种光刻装置和装置的制作方法 CN200310114397ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂处理方法 CN200310114869南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
测试掩模结构 CN200310114868南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
平版印刷版前体 CN200310114844富士胶片株式会社日本神奈川县　
数字全息两次曝光位相差放大装置 CN200320107829中国科学院上海光学精密机械研究所201800 上海市800－211邮政信箱　
光刻用掩模护层及其制作方法 CN200310113209信越化学工业株式会社日本东京都　
检验方法和器件制造方法 CN200310120342ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
检验方法及器件制造方法 CN200310120946ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感放射线性树脂组合物 CN200310120348住友化学工业株式会社日本大阪府　
光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂 CN200310120468旭电化工业株式会社日本东京都　
一种光刻装置和装置的制作方法 CN200310103693ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
铝塑复合版基预涂感光版 CN200320105100李继洲114003 辽宁省鞍山市铁东区长甸西长甸委19组　
印刷板材料 CN200310102682柯尼卡美能达控股株式会社日本东京都　
印刷电路基板表面胶膜的自动剥除法及其装置 CN200310102220郑秉熖中国台湾　
一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物 CN200310102365住友化学工业株式会社日本大阪市　
基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置 CN200310102643东京毅力科创株式会社日本东京都　
检测掩模缺陷的方法，计算机程序和基准衬底 CN200310123162ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有微影光阻检测图案的光刻及其检测方法 CN200310108190上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
图像传感器中平面滤色器的制作方法 CN200310104368华微半导体（上海）有限责任公司中国上海　
图案化金属层的方法与金属内连线的制造方法 CN200310102322旺宏电子股份有限公司中国台湾　
正性光敏组成物 CN200310102321住友化学工业株式会社日本大阪市　
LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法 CN200310101490东京应化工业株式会社日本神奈川县　
表面传导型电子发射元件及图像形成装置的制造方法 CN200310102497佳能株式会社日本东京　
感放射线性树脂组成物 CN200310101998住友化学工业株式会社日本大阪市　
化学增幅型正性抗蚀剂合成物 CN200310101996住友化学工业株式会社日本大阪市　
光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术 CN200310100592朗姆研究公司美国加利福尼亚州　
相移掩模及用它的图形的形成方法和电子器件的制造方法 CN200310101475株式会社瑞萨科技日本东京都　
利用二次电子的电子投影光刻装置 CN200310102435三星电子株式会社韩国京畿道　
在光学石版曝光时冷却标线板的方法以及装置 CN200310102441ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
包括二次电子清除单元的平版印刷投影装置 CN200310119610ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
投影光学系统以及具备该投影光学系统的曝光装置 CN200310100546尼康株式会社日本东京都　
偏振膜高分辨力掩模板 CN200310100172中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法 CN200310100171中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统 CN200310100170中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
普通光源紧贴式纳米光刻光学装置 CN200310100167中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
确定杂散辐射的方法，光刻投影设备 CN200310101344ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
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