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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
带状工件输送装置 CN200310101211优志旺电机株式会社日本东京都　
一种无肼刻蚀液 CN200310111758刘萍518057广东省深圳市南山区高新技术产业园北区郎山一路丹邦工业园　
光刻法用洗涤液和基板的处理方法 CN200310100312东京应化工业株式会社日本神奈川县　
维持微影制程容许度的方法 CN200310100087南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
电光装置用基板的制造方法和电光装置的制造方法 CN200310100065精工爱普生株式会社日本东京都　
利用感光性树脂的感光性树脂复合物 CN03160295东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
红外线敏感的组合物和平版印刷版前体 CN03135972富士胶片株式会社日本神奈川县　
热敏CTP版材用成像组合物、用于该组合物的产酸源及其制备 CN03143500北京师范大学;广西玉林金龙PS版印刷材料有限公司100875北京市海淀区新街口外大街19号　
改进的光致抗蚀剂 CN03165028希普雷公司美国马萨诸塞　
改进的光引发剂 CN03165027希普雷公司美国马萨诸塞　
光刻投射装置及器件制造方法 CN03164862ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光性热固性糊状组合物以及使用其得到的烧成物图案 CN03160395太阳油墨制造株式会社日本东京　
半导体晶圆制造所使用相位移转光罩的图案制作方法与其结构 CN03151440中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市张江路18号　
固体摄像元件和固体摄像元件的制造方法 CN03160221佳能株式会社日本东京　
外缘型态相移光罩的自对准方法 CN03151283中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号　
彩色滤光片用感光性树脂组成物 CN03160135奇美实业股份有限公司台湾省台南县仁德乡三甲村59-1号　
光刻装置和测量系统 CN03164861ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光掩模、电子器件的制造方法及光掩模的制造方法 CN03159698株式会社瑞萨科技日本东京都　
光刻装置、器件制造方法及其制造出的器件 CN03125493ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
制作晶圆试片的方法及评估光罩图案间迭对位准的方法 CN03157469南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
基于压印光刻的复合材料真三维微电子机械系统制造方法 CN03134596西安交通大学710049陕西省西安市咸宁路28号　
光刻标记结构、光刻投射装置和进行基片对准的方法 CN03164840ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法 CN03164858ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光刻系统的对准系统和方法 CN03164859ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
辐射源、光刻装置和器件的制造方法 CN03164836ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光工序工作版遮光装置 CN03262766彩虹彩色显像管总厂712021 陕西省咸阳市彩虹路1号　
钎料印刷用掩模、布线基板及其制造方法、及其它们的应用 CN03157092精工爱普生株式会社日本东京都　
制备材料芯片的k分分形掩膜方法 CN03150906上海交通大学200030上海市华山路1954号　
光刻装置和器件的制造方法 CN03125544ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
对准基底的方法、计算机程序、器件的制造方法及由此制得的器件 CN03125518ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
可聚合组合物和利用其的平版印刷版前体 CN03158120富士胶片株式会社日本神奈川县　
全芯片无铬相光刻技术生产中实现关键尺寸线性控制的方法 CN03164843ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光设备及传送掩模和工件的方法 CN03156857株式会社ORC制作所日本东京　
用于形成双金属镶嵌结构工艺的洗涤液及基板处理方法 CN03156579东京应化工业株式会社日本神奈川县　
化学增强型光刻胶组合物 CN03156561住友化学工业株式会社日本大阪市　
感光性着色组合物及滤色器 CN03156694东洋油墨制造株式会社;凸版印刷株式会社日本东京　
分划板焦点测量系统和使用多重干涉测量光束的方法 CN03155430ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
含有2，1，4-重氮萘醌磺酰基的光、热、电子束产酸源及其制备方法 CN03156178北京师范大学100875北京市海淀区新街口外大街19号　
微细图案形成材料及微细结构的形成方法 CN03132745株式会社瑞萨科技日本东京都　
步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统 CN03156436清华大学100084北京市100084-82信箱　
一种掩膜制造方法 CN03150650中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市张江路18号　
图形形成方法及曝光装置 CN03155716松下电器产业株式会社日本大阪府　
显影方法、衬底处理方法和衬底处理装置 CN03156086株式会社东芝日本东京都　
辐射线敏感树脂组合物 CN03125520JSR株式会社日本东京　
光学光刻方法 CN03155531力晶半导体股份有限公司台湾省新竹市　
曝光装置的检查方法和曝光装置 CN03156002株式会社东芝日本东京都　
光阻帮浦喷洒侦测电路及其系统 CN03153892旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
调准装置和方法，平版印刷装置，器件制造方法及制造的器件 CN03157743ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及设备制造方法 CN03132798ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件 CN03132799ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备和器件制造方法 CN03147022ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件 CN03147046ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光学接近修正方法 CN03154947南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
膜结构 CN03155178旭硝子株式会社日本东京　
含有非线性光学材料层的光刻用掩膜 CN03150504中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市800－211邮政信箱　
间隙体用感光性树脂组成物 CN03155151奇美实业股份有限公司台湾省台南县仁德乡三甲村59-1号　
正型感光性树脂组成物 CN03155152奇美实业股份有限公司台湾省台南县仁德乡三甲村59-1号　
磺酸盐和光刻胶组合物 CN03155804住友化学工业株式会社日本大阪市　
绘图设备和块数确定方法 CN200610081709大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
具有良好平坦度的基板卡盘的曝光装置 CN200610083488LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
双台座光刻设备和器件制造方法 CN200610099860ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
光致抗蚀剂用剥离液 CN200610080242东京应化工业株式会社日本神奈川县　
在基材上形成图案化的层的方法 CN200480032181皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
化学放大正型光敏热固性树脂组合物、形成固化制品的方法及制备功能器件的方法 CN200480031619东京应化工业株式会社日本神奈川县　
厚膜或超厚膜响应的化学放大型光敏树脂组合物 CN200480031943AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
含有糊精酯化合物的形成下层膜的组合物 CN200480031792日产化学工业株式会社日本东京都　
含有金属卤化物腐蚀抑制剂的碱性后等离子体蚀刻/灰化残余物去除剂和光致抗蚀剂剥离组合物 CN200480032175马林克罗特贝克公司美国密苏里州　
光致抗蚀剂剥离用组合物及剥离光致抗蚀剂的方法 CN200480032334长濑化成株式会社日本大阪　
半色调掩模及制造方法和采用该掩模制造显示器件的方法 CN200510132875LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
灰色调掩模的缺陷校正方法 CN200610092202HOYA株式会社日本东京　
用于极远紫外光刻的反射掩模和制作该反射掩模的方法 CN200610092874三星电子株式会社韩国京畿道　
抗反射涂层及其设计方法 CN200510073018旺宏电子股份有限公司中国台湾　
丝网贴片制版方法 CN200610028138上海耀皮康桥汽车玻璃有限公司201315上海市浦东康桥工业区康柳路55号　
193nm远紫外光刻胶及其制备方法 CN200510040224苏州瑞红电子化学品有限公司215128江苏省苏州市吴中区苏蠡路81号　
193nm远紫外光刻胶及其制备方法 CN200510040225苏州瑞红电子化学品有限公司215128江苏省苏州市吴中区苏蠡路81号　
光敏组合物和用该光敏组合物形成的滤色器 CN200610080918东京应化工业株式会社日本神奈川　
步进式曝光机的图案影像设定及倍率误差补偿方法 CN200610036082志圣科技（广州）有限公司510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号　
用于改进临界尺寸计算中使用的光刻胶模型的校准的方法、程序产品以及设备 CN200610071189ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于光学临近修正的方法和系统 CN200610073023国际商业机器公司美国纽约　
使用超像素形式的倾斜镜面的光构图装置 CN200610077147ASML控股有限公司;ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
使用至少两个分辨率级来表示图像区域的方法 CN200610080356麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法 CN200610084813国际商业机器公司美国纽约阿芒克　
包括金刚形烃衍生物的光刻胶组合物 CN200480031044切夫里昂美国公司美国加利福尼亚　
用于形成光学图像的方法和设备 CN200480031597皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
双胆碱和三胆碱在涂石英多晶硅和其它材料清洁中的用法 CN200480031172EKC技术公司美国加利福尼亚　
用于从衬底去除光刻胶的方法和设备 CN200480031340东京毅力科创株式会社日本东京都　
在聚合物膜中形成部分深度特征结构 CN200480030935倒装晶片技术有限公司美国亚利桑那　
具有对准标记的刻印平板印刷模板 CN200480031429得克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
微分临界尺寸和覆盖计量装置以及测量方法 CN200380110841国际商业机器公司美国纽约　
用于表征光刻技术对晶片的影响的系统和方法 CN200480011590皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
用于X-架构布局设计的图样识别及度量结构 CN200480025214先进微装置公司美国加利福尼亚州　
图案化的陶瓷薄膜和其制备方法 CN200480032117惠普开发有限公司美国德克萨斯州　
可固化组合物和利用它的快速成型方法 CN200480032662帝斯曼知识产权资产管理有限公司荷兰海尔伦　
生产具有高清晰度和改善机械性能的固化制品的可光固化组合物 CN200480032910亨斯迈先进材料（瑞士）有限公司瑞士巴塞尔　
感光性树脂组合物、感光性组件、抗蚀图的形成方法及印刷电路板的制造方法 CN200480032982日立化成工业株式会社日本东京都　
用于微光刻投影曝光设备的照明系统 CN200480033300卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
正性光致抗蚀剂以及结构体的制造方法 CN200480033386积水化学工业株式会社日本大阪府　
偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法 CN200480033556微米技术股份有限公司美国爱达荷州　
水性抗蚀剂组合物 CN200480033859昭和电工株式会社日本东京都　
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