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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
感光聚合物印刷版前体 CN200480034171爱克发-格法特公司比利时莫策尔　
抗蚀剂层积体的形成方法 CN200480034295大金工业株式会社日本大阪府　
生产柔性印刷版的方法 CN200480034407纳普系统股份有限公司美国加利福尼亚州　
雷文生相转移掩模及其制备方法与制备半导体元件的方法 CN200510078931茂德科技股份有限公司台湾省新竹科学工业园　
用于制造平板显示器件的装置和方法 CN200510132211LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
根据整体图案密度所实施的罩幕关键尺寸的校正 CN200610002788台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法 CN200610016995中国科学院长春应用化学研究所130022吉林省长春市人民大街5625号　
一种投影光学系统 CN200610028605上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
抗蚀剂组合物及其使用方法 CN200610066565国际商业机器公司美国纽约　
蚀刻剂及使用蚀刻剂制造布线及薄膜晶体管基板的方法 CN200610067407三星电子株式会社韩国京畿道　
感放射线性树脂组合物、凸起和间隔体及液晶显示元件 CN200610067902JSR株式会社日本东京都　
化学放大型抗蚀材料及使用了它的图案形成方法 CN200610073601松下电器产业株式会社日本大阪府　
聚合物的表面改性方法 CN200610078603日立麦克赛尔株式会社日本大阪府　
涂料组合物 CN200610079811罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
用于浸没式光刻的组合物和方法 CN200610079812罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
在至少投射光学部件和晶片上具有相等压力的浸入式光刻装置和方法 CN200610082751国际商业机器公司美国纽约　
扫描仪系统 CN200610084793激光影像系统有限公司德国耶拿　
负型感光性树脂组合物 CN200610091557东进世美肯株式会社韩国仁川市　
形成抗蚀刻保护层的方法 CN200610091591台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾新竹市　
基板处理系统及基板处理方法 CN200610091623东京毅力科创株式会社日本东京都　
光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统 CN200610092512三星电子株式会社韩国京畿道　
感光性树脂组合物、显示面板用间隔物和显示面板 CN200610093693JSR株式会社日本东京都　
用于产生形貌图案化衬底的方法和装置 CN200610093759日立环球储存科技荷兰有限公司荷兰阿姆斯特丹　
加工方法、加工装置及半导体器件的制造方法 CN200610094255株式会社东芝日本东京都　
在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 CN200610095834NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 CN200610095835NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
透镜定位方法,刻录方法,定位方法以及刻录装置 CN200610099850索尼株式会社日本东京都　
负型感光树脂组合物 CN200610100229罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
用于彩色滤光片工艺的光掩模 CN200610101963友达光电股份有限公司中国台湾新竹市　
用于形成着色层的放射线敏感性组合物和滤色器 CN200610106037JSR株式会社日本东京都　
离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置 CN200610106080三星电子株式会社韩国京畿道　
使用化学辅助回流来减小光致抗蚀剂的线缘粗糙度 CN200480035077英特尔公司美国加利福尼亚州　
印刷数据生成方法和装置以及印刷数据生成程序和记录有该程序的计算机可读取记录媒体 CN200480035400利优比株式会社日本广岛　
使用兼容浸渍媒质浸渍光刻方法 CN200480035404先进微装置公司美国加利福尼亚州　
消除半导体晶片边缘区图形缺陷的方法 CN200510027096中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
光阻涂布方法及其光阻涂布设备 CN200510079116广辉电子股份有限公司中国台湾桃园县　
曝光装置及图形形成方法 CN200510081105集成方案株式会社日本国东京都　
负性抗蚀剂组合物 CN200510093396ADMS技术株式会社韩国忠南燕岐郡　
软模及其制造方法 CN200510127522LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
涂敷装置和使用其制造液晶显示器件的方法 CN200610090058LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物 CN200610092645株式会社东进世美肯韩国仁川广域市　
带膜部件的光掩模及膜部件 CN200610093119HOYA株式会社日本东京　
基板处理系统及其控制方法 CN200610093181东京毅力科创株式会社日本东京　
基板处理装置 CN200610093230大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
光刻装置和器件制造方法 CN200610093280ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
碱性显影性感光性树脂组合物 CN200610093819株式会社艾迪科日本东京都　
基板处理系统以及基板处理方法 CN200610094574东京毅力科创株式会社日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200610107688ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
PS版烤版设备 CN200520009787段 陵400039重庆市九龙坡区陈家坪华宇大厦B3-19　
自动卷带式光刻丝网涂胶机 CN200520013961陈雪尧315800浙江省宁波市宁波经济技术开发区大港工业城大港三路51号东盛集成电路公司　
用于制造三维纳米级结构的方法和装置 CN200480035731伊利诺伊大学评议会美国伊利诺斯州　
辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件 CN200480036031柯达彩色绘图有限责任公司德国奥斯特罗德　
大面积光刻的装置和方法 CN200480036055奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
用于图形化宽度显著不同的线的复合光学光刻方法 CN200480036295英特尔公司美国加利福尼亚州　
平版印刷系统中的有用物传送系统 CN200480036514株式会社尼康日本东京　
光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法 CN200480036538ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
用于对工件构图的方法和装置以及制造该装置的方法 CN200480036884麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
在光致抗蚀剂层表面内形成凹陷的方法 CN200480036934惠普开发有限公司美国德克萨斯州　
电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统 CN200510012023中国科学院电工研究所100080北京市海淀区中关村北二条6号　
孔的两次曝光成像光微影方法 CN200510027258上海华虹NEC电子有限公司201206上海市浦东新区川桥路1188号　
PS版挤压调幅涂布装置 CN200520143653乐凯集团第二胶片厂473003河南省南阳市车站路718号　
PS版挤压咀变幅涂布装置 CN200520143654乐凯集团第二胶片厂473003河南省南阳市车站路718号　
一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法 CN200610017027中国科学院长春应用化学研究所130022吉林省长春市人民大街5625号　
光刻投影物镜远心测量方法 CN200610029273上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法 CN200610029297上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
显示元件的形成方法及其结构 CN200610108007友达光电股份有限公司中国台湾新竹市　
用于深紫外的光刻胶组合物及其工艺 CN200480034953AZ电子材料美国公司美国新泽西　
用于具有稳定拉伸性能的制品的可光致固化组合物 CN200480036235亨斯迈先进材料（瑞士）有限公司瑞士巴塞尔　
微光刻处理的辐射束特性控制方法和系统 CN200480037132微光技术有限公司美国艾达荷　
制造微芯片的方法和设备 CN200480037149帝斯曼知识产权资产管理有限公司荷兰海尔伦　
光敏组合物去除剂 CN200480037241昭和电工株式会社日本东京都　
有高孔径与平端面的投影物镜 CN200480037372卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
带有沟槽的复合印刷 CN200480037753英特尔公司美国加利福尼亚州　
在图形元素的重复性阵列中生成不规则性的多步骤处理 CN200480037754英特尔公司美国加利福尼亚州　
用新型存储结接触孔提高光刻工艺裕度的方法 CN200510027615中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模 CN200510082062联华电子股份有限公司中国台湾新竹科学工业园区　
用于连续横向固化技术的掩膜及用其形成多晶硅层的方法 CN200510082849友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
可光成像组合物 CN200510084116长兴化学工业股份有限公司中国台湾　
用于优化全芯片层照明的方法、程序产品和设备 CN200610071167ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏热固性树脂组合物、感光性覆盖层和柔性印刷线路板 CN200610090384株式会社有泽制作所日本新潟　
表征方法、表征处理操作的方法、以及装置制造方法 CN200610091304ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
涂覆装置及其操作方法 CN200610091844LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件 CN200610093679ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
衬底的处理方法及用于该方法的药液 CN200610093729NEC液晶技术株式会社日本神奈川县川崎市　
药液认定方法、半导体器件及液晶显示装置的制造方法 CN200610094228株式会社东芝日本东京都　
感光性树脂组合物及层合体 CN200610094231旭化成电子材料元件株式会社日本东京都　
基板处理装置 CN200610094248东京毅力科创株式会社日本东京　
半导体晶片的处理方法及晶边残余物去除系统 CN200610095874台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾新竹市　
进行湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置 CN200610095876台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾新竹市　
着色感光性树脂组合物及其固化物 CN200610098411太阳油墨股份有限公司日本东京都练马区羽泽2丁目7番1号　
光刻胶组合物,薄膜图案形成方法、TFT阵列面板制造方法 CN200610098739三星电子株式会社;东进世美肯株式会社韩国京畿道　
光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法 CN200610099674ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻装置的浸没损坏控制 CN200610099680ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
浸润式光刻的方法及其处理系统 CN200610100019台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾新竹市　
光刻装置和器件制造方法 CN200610100045ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200610100125ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
度量、光刻、加工装置、度量方法及器件制造方法 CN200610100135ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
聚焦确定法，器件制造法和掩模 CN200610100136ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
掩模图形检查、曝光条件验证、半导体器件的制造方法 CN200610100292株式会社东芝日本东京都　
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