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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
减少透镜像差与图案移位的光罩与方法 CN03131305南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
照明系统,投影曝光设备和器件制造方法 CN02127055佳能株式会社日本东京　
反射防止膜的光学常数的决定方法和光刻胶图形的形成方法 CN02131624株式会社东芝日本东京　
细微结构体的制造方法、电子装置的制造方法及其制造设备 CN02121712精工爱普生株式会社日本东京都　
构图铟锡氧化物的蚀刻剂和制造液晶显示装置的方法 CN02119111LG.飞利浦LCD有限公司韩国汉城　
具有群组补偿能力的曝光系统及方法 CN03138635南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
负像记录材料与花青染料 CN02105262富士胶片株式会社日本国神奈川县　
非水系保护膜剥离液管理装置及非水系保护膜剥离液管理方法 CN02143743株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社日本神奈川　
曝光系统及方法 CN03138634南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
使用图案化发射体的电子光刻设备 CN03131171三星电子株式会社韩国京畿道　
一种用于纵横分辨率不同的打印设备的调频挂网方法 CN02100078北京北大方正集团公司;北京大学计算机科学技术研究所100085北京市海淀区上地信息产业基地5街9号　
曝光装置 CN02108207尼康株式会社日本东京都　
图案形成体的制造方法以及用于其中的光掩膜 CN02108419大日本印刷株式会社日本东京都　
曝光方法和装置 CN200410011486佳能株式会社日本东京　
使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕 CN200410043514因芬尼昂技术股份公司;国际商业机器公司联邦德国慕尼黑　
光刻装置和器件制造方法 CN200410049043ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
浸润式光刻之方法与系统 CN200410074260台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹市　
曝光装置和器件制造方法 CN200410081750佳能株式会社日本东京　
光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法 CN200410082146ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司荷兰维尔德霍芬　
移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置 CN200410095318国际商业机器公司美国纽约州　
光刻装置 CN200410095448三星电子株式会社韩国京畿道　
用于制造平板显示器件的方法和设备 CN200410095589LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
平板显示装置及其制造方法 CN200410098185三星SDI株式会社韩国京畿道　
光刻装置和器件制造方法 CN200410102080ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
图案形成装置和使用其制造连续图案的方法 CN200410102292LG电子株式会社;韩国电子部品研究院韩国汉城　
滤色片的制造方法、固体摄像器件和摄像机 CN200410104463松下电器产业株式会社日本大阪府　
抑制污染的光刻设备,器件制造方法,和由此制造的器件 CN200410104715ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光处理系统、曝光处理方法和半导体器件的制造方法 CN200510000213株式会社东芝日本东京都　
感放射线性组合物用低泡沫显影液 CN200410102993东友FINE-CHEM株式会社;东友STI株式会社韩国汉城　
利用电子束诱导化学刻蚀修复掩模 CN02811807英特尔公司美国加利福尼亚州　
含有感光速度促进剂的可水显影光成像厚膜组合物 CN02820217E·I·内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
用于显微平版印刷的氟化共聚物 CN03805007E·I·内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
感光性树脂组合物、使用感光性树脂组合物的光敏元件、抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法 CN03804647日立化成工业株式会社日本东京都　
图像形成方法和装置 CN03804425麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
用于避免和清洁光学元件上污染物的装置,EUV石版印刷设备和方法 CN03805514卡尔赛斯半导体制造技术股份公司德国上科亨　
用于浸液式光刻的折射投影物镜 CN03805575卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
花纹工艺中的全移相掩模 CN03805394数字技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
模仁制造方法 CN200410015228鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
感光性转印薄片、感光性叠层体、形成图像图案的方法、形成配线图案的方法 CN200410100674富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置及器件制造方法 CN200410081822ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
形成具有低电阻率金属图案的方法 CN200410081932三星电子株式会社韩国京畿道　
测量方法、用于提供对准标记的方法和器件制造方法 CN200410104819ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光系统、杂散光检查用的检查掩模及评价光刻工艺的方法 CN200510000307株式会社东芝日本东京都　
感光性树脂组合物及其用途 CN03805765旭化成电子材料元件株式会社日本东京　
使用前馈覆盖信息的光刻覆盖控制 CN02825172先进微装置公司美国加利福尼亚州　
打印大数据流的方法和装置 CN03806638麦克罗尼克激光系统公司;ASML荷兰公司瑞典泰比　
清洗半导体基板的PH缓冲组合物 CN03806833高级技术材料公司美国康涅狄格州　
激光退火的制程光罩以及利用激光退火形成多晶系膜层的方法 CN200410029511统宝光电股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
涂料组合物 CN200410094228罗姆和哈斯电子材料有限责任公司;杜邦公司美国马萨诸塞　
蚀刻组合物 CN200510055418东进世美肯株式会社韩国仁川市　
凸起物和间隔物的形成及用于形成它们的辐射敏感树脂组合物 CN200510054242JSR株式会社日本东京都　
光敏树脂组合物及其用途 CN200510055133日东电工株式会社日本大阪府　
一种精密可调定位装置 CN200510024016上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
抗蚀剂组合物 CN200510055829大赛璐化学工业株式会社日本大阪府　
形成和修正具有间隙缺陷的光刻版的方法 CN03817594飞思卡尔半导体公司美国得克萨斯　
光掩膜及修补缺陷的方法 CN03818126杜邦光掩公司美国得克萨斯州　
微接触印刷方法 CN03817850皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
膏料、显示器部件和显示器部件的制造方法 CN200410081698东丽株式会社日本东京　
光罩处理器及使用此光罩处理器来处理光罩的方法 CN200310122874中芯国际集成电路制造(上海)有限公司201203上海市张江路18号　
一种修复掩膜上的铬污染点的方法及其所采用的定位版 CN200310122957中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
显示面板的框胶注入装置及其注入方法 CN200310124548台湾微型影像股份有限公司台湾省新竹县林乡文昌街138号　
显示面板的边框及其构成方法 CN200310124563台湾微型影像股份有限公司台湾省新竹县林乡文昌街138号　
光刻掩模位相冲突的解决方法 CN02811546数字技术公司美国加利福尼亚州　
形成防反射膜的组合物 CN03804212日产化学工业株式会社日本东京都　
多光子光敏化方法 CN038235373M创新有限公司美国明尼苏达州　
光掩模坯料和光掩膜 CN200380100354HOYA株式会社日本东京都　
掩模校正方法 CN200380100470索尼株式会社日本东京都　
化学放大正性光致抗蚀剂组合物 CN200380100580东京应化工业株式会社日本神奈川县　
采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统 CN200410009038中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统 CN200410009042中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
用于光刻套刻的划片槽结构 CN200410017898上海华虹NEC电子有限公司201206上海市浦东川桥路1188号　
显影液移除装置 CN200410027038鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法 CN200410037315盟图科技股份有限公司中国台湾　
光敏组合物 CN200510053593富士胶片株式会社日本神奈川县　
光致抗蚀剂剥离剂 CN200510064727东友FINE-CHEM株式会社韩国全罗北道　
照明光学系、曝光装置、及器件制造方法 CN200510065013佳能株式会社日本东京　
图像记录装置 CN200510065572大日本网目版制造株式会社日本京都府　
光学薄膜及其制作方法 CN200510065784国际商业机器公司美国纽约　
液态树脂组合物和由其生产固化制品或三维成型制品方法 CN200510065999范蒂科股份公司瑞士巴塞尔　
描绘图形、抗蚀剂图形的形成方法和曝光装置控制方法 CN200510066018株式会社东芝日本东京都　
用于处理面板的装置和方法 CN200510066251显示器生产服务株式会社韩国京畿道　
化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法 CN200510066667住友化学株式会社日本国东京都　
负性的热敏平版印版母体 CN200510067057爱克发-格法特公司比利时莫策尔　
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 CN200510067313东京应化工业株式会社日本神奈川县　
自动显影处理机以及使用该处理机的图像形成方法 CN200510067618富士胶片株式会社日本神奈川县　
银浆用玻璃组合物、使用该组合物的感光性银浆、电极图形和等离子体显示板 CN200510067802太阳油墨股份有限公司日本东京都　
光敏性树脂组合物和含有该组合物的光敏性干膜 CN200510071704东京応化工业株式会社日本川崎市　
器件制造方法 CN200510071757ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
金属镶嵌极端远紫外线光刻技术用光掩模及其制造方法 CN02812046英特尔公司美国加利福尼亚州　
位置检测方法和表面形状估算方法、曝光装置及采用该曝光装置的器件制造方法 CN03805546佳能株式会社日本东京　
用于密封投影照明设备的装置 CN03824720卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
制造聚合物微结构和聚合物波导的方法 CN03825106鲁梅热股份有限公司美国华盛顿州　
印刷用PS版基用铝板的制造方法 CN200510010005东北轻合金有限责任公司150060黑龙江省哈尔滨市平房区新疆大街　
制作电子功能材料的需求图案的方法 CN200510068750精工爱普生株式会社日本东京　
图案微细化用涂膜形成剂和使用其形成微细图案的方法 CN200510069037东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光致抗蚀剂树脂组合物 CN200510071268东进世美肯株式会社韩国仁川市　
抗反射组合物 CN01815926希普利公司美国马萨诸塞州　
校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法 CN01820942数字技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
曝光用掩膜、它的制造方法及曝光方法 CN200410097946松下电器产业株式会社;株式会社PD服务日本大阪府　
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