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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
印模,方法和设备 CN01806988皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
制作微电子器件的工艺 CN01813139科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
三维立体掩膜 CN200410080758旺宏电子股份有限公司台湾省新竹市　
光敏性树脂组合物，光敏性元件，防蚀图形及其制法和叠层基板 CN200410074276日立化成工业株式会社日本东京都　
用对激活光透明的模板在衬底上形成图案的方法及半导体器件 CN200510062999得克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件 CN200510069112JSR株式会社日本东京都　
化学放大正性抗蚀剂组合物、卤代酯衍生物及其生产方法 CN200510070438住友化学株式会社日本国东京都　
化学增幅光阻剂组成物 CN200510071380台湾永光化学工业股份有限公司台湾省台北市　
着色感光性树脂组合物 CN200510076370住友化学工业株式会社日本国大阪府　
正性抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案形成方法 CN200510070085东京应化工业株式会社日本神奈川县　
监控再生光致抗蚀剂的方法、光致抗蚀剂再生工艺及系统 CN200410038301财团法人工业技术研究院台湾省新竹县　
光刻装置及器件制造方法 CN200510071415ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂层的显影方法 CN200510069445台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
曝光掩模及其生产方法和曝光方法 CN200480000081索尼株式会社日本东京都　
可光聚合的组合物和由其衍生的胶版印刷板 CN200480000410克拉通聚合物研究有限公司荷兰阿姆斯特丹　
化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 CN200480000692东京应化工业株式会社日本神奈川县　
放射线固化性组合物、其保存方法、固化膜形成方法、图案形成方法、图案使用方法、电子元件及光波导 CN200480000498日立化成工业株式会社日本东京都　
放射线固化性组合物、其保存方法、固化膜形成方法、图案形成方法、图案使用方法、电子部件及光波导 CN200480000499日立化成工业株式会社日本东京都　
用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置 CN200410048544三星电子株式会社;弗吉尼亚技术知识资产公司韩国京畿道　
对0相位区域附加并行线以增强透明电场相移位掩模的方法 CN02824782先进微装置公司美国加利福尼亚州　
多重曝光的方法 CN200410018456上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
正型感光性的聚酰亚胺的涂料组合物 CN200410042520财团法人工业技术研究院台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号　
液晶显示元件散乱层光阻组成物 CN200410045344明德国际仓储贸易（上海）有限公司200131上海市外高桥保税区美盛路168号北楼5层A座　
用于浸没式光刻的液体组合物及光刻法 CN200410081983海力士半导体有限公司韩国京畿道　
浸没式光刻系统 CN200420087627台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
一种用于非预涂式印刷制版的液态感光树脂袋 CN200420090988茹鹤陵201105上海市华翔路356号　
化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 CN200480000888东京应化工业株式会社日本神奈川县　
用于投影光刻机的调焦调平传感器 CN200510025793上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
用以计算空间光调制器的虚拟影像的系统与方法 CN200510068423ASML控股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200510071348ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有动态光瞳填充的剪切干涉仪 CN200510072774ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光刻器件及方法 CN200510081756奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
一种高精度灰度掩模制作方法 CN200510011493中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
不刻透金属掩模板及其应用 CN200410009117中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
图形数据的制作方法、图形验证方法及其应用 CN200510073472株式会社东芝日本东京都　
抗蚀材料以及图案形成方法 CN200510072000松下电器产业株式会社日本大阪府　
抗蚀材料以及图案形成方法 CN200510073033松下电器产业株式会社日本大阪府　
抗蚀材料以及图案形成方法 CN200510073036松下电器产业株式会社日本大阪府　
感光性组合物 CN200510075857东京应化工业株式会社日本神奈川县　
感光性树脂组合物 CN200510075828东进世美肯株式会社韩国仁川市　
光刻设备和器件制造方法 CN200510071696ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置 CN200510075829株式会社ORC制作所日本东京　
曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序 CN200510075830株式会社ORC制作所日本东京　
光刻装置和器件制造方法 CN200510075891ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200510081730ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
感光性树脂去除用的稀释剂组合物 CN200510074042东进世美肯株式会社韩国仁川市　
涂布膜的加热装置和光刻胶的处理装置 CN200510082468株式会社东芝日本东京都　
图像记录设备、切口形成设备及其使用方法 CN200510067074大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
曝光方法及装置 CN02801862佳能株式会社日本东京　
正性光敏树脂组合物、制备正性光敏树脂组合物的方法及半导体设备 CN01818334住友电木株式会社日本东京　
用于显微光刻中的抗反射层 CN01819721纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
蚀刻方法和用于形成蚀刻保护层的组合物 CN02817955克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
一种紫外曝光机及其曝光量自动控制方法及其装置 CN200310115973中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130031吉林省长春市东南湖大路16号　
改进的图形发生器反射镜结构 CN200410035361微激光系统公司瑞典泰比　
光刻装置和器件制造方法 CN200410043180ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件 CN200410043381ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂 CN01818641纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
着色感光性树脂组合物 CN200410047524住友化学工业株式会社日本大阪府　
光罩定位装置 CN200410046209家登精密工业股份有限公司台湾省台北县　
光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物 CN200510074806株式会社东进世美肯韩国仁川广域市　
正型抗蚀剂组合物以及其中使用的化合物 CN200510074388东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光罩及使用该光罩制作倾斜反射突块的方法 CN200410027437鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
曝光装置 CN200510073458株式会社ORC制作所日本东京　
掩模框架搬运装置以及曝光装置 CN200510076091株式会社ORC制作所日本东京　
图案形成材料体和使用该材料体的图案形成方法 CN200380101900三星电子株式会社韩国京畿道　
负型青紫色激光感光性组合物、图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法 CN200480001373三菱化学株式会社日本东京　
化学增强正性光敏树脂组合物 CN200380101785AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
二进制半色调光掩模和微型三维装置及其制作方法 CN200480001226美商福昌公司美国康涅狄格　
光敏树脂组合物 CN200510075211住友化学株式会社日本东京都　
光敏糊状组合物，由此制备的PDP电极以及包括该PDP电极的PDP CN200510081754三星SDI株式会社韩国京畿道水原市　
薄膜涂布装置及其方法和液体浸泡曝光装置及其方法 CN200510076127松下电器产业株式会社日本大阪府　
曝光装置及图案形成方法 CN200510074297松下电器产业株式会社日本大阪府　
半导体器件的制造方法 CN200510075134株式会社瑞萨科技日本东京都　
辐射系统、光刻设备、装置制造方法及其制造的装置 CN200510076147ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200510076586ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
形成模具嵌入物和模具的光刻方法 CN200380102296庄臣及庄臣视力保护公司美国佛罗里达州　
感放射线性树脂组合物 CN200380102382JSR株式会社日本东京　
电子束曝光方法及电子束曝光装置 CN200380102314松下电器产业株式会社日本大阪府　
浸润式光刻系统 CN200420088867台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
连续面形掩模移动光刻曝光装置 CN200510011494中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
用于形成图案的抗蚀剂及使用其形成图案的方法 CN200510075066LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
用于生产印刷电路板的投影曝光装置和投影曝光方法 CN200510099146株式会社阿迪泰克工程日本东京　
感光材料冲洗设备及面积测量方法 CN200510097812大日本网目版制造株式会社日本京都府　
显影处理方法和显影液涂布装置 CN200510099555东京威力科创股份有限公司日本东京都　
软烘焙基板上的光刻胶的装置和方法 CN200510080185LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
环保型再生PS版油墨及感光胶剥离剂及其配制方法 CN200510086552石深泉100074北京市丰台区长辛店辛庄工业区普瑞特公司　
显影装置、显影方法及显影液循环方法 CN200480002989凸版印刷株式会社日本东京都　
光刻设备和生成掩模图案的方法以及该设备制造方法 CN200510109890ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏糊状物组合物 CN200510099882三星SDI株式会社韩国京畿道　
改进的圆网涂胶机 CN200510044896郝 强262500山东省潍坊市青州市青州南路昭德工业园4089号　
使用T型光刻胶图案来形成缩小导线图形的方法 CN200410054374上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
导电结构的图案转移方法 CN200410054375上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
曝光装置及图形形成方法 CN200510099184松下电器产业株式会社日本大阪府　
光刻设备和器件制造方法 CN200510113235ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
基板处理装置和基板定位装置 CN200510092900东京毅力科创株式会社日本东京都　
精制抗蚀剂用粗树脂的方法 CN200480003485东京应化工业株式会社日本神奈川县　
放射线敏感性树脂组合物、其制造法以及使用其的半导体装置的制造方法 CN200480003908飞索有限责任公司美国加利福尼亚　
掩模板提供系统、掩模板、掩模板透明基片的制造方法 CN200510103988HOYA株式会社日本东京都　
铬光罩制造方法 CN200510008205盟图科技股份有限公司台湾省新竹　
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