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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
用于步进机对准的自补偿记号装置 CN01807939皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
化学增强光刻胶及一种光刻胶合成物 CN01807989东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
光刻胶剥离剂组合物 CN01808573东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
纳米结构 CN01809009英国技术集团国际有限公司英国伦敦　
曝光控制光掩模及其形成方法 CN01809469西孝日本茨城县　
有关模板的制造方法和制成的模板 CN01809984奥布杜卡特公司瑞典马尔默　
光刻胶去除剂混合物 CN01810235东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
感光性树脂组合物、感光性元件、保护层图形的制造方法和印刷电路布线板的制造方法 CN01810239日立化成工业株式会社日本东京都　
多光束图案生成器 CN01810270微激光系统公司瑞典泰比　
负作用化学放大的光刻胶组合物 CN01811264科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
使用液/液离心机降低成膜树脂中金属离子含量的方法 CN01811309科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
衬底及与该结构的制造相关的工艺 CN01811373奥布杜卡特公司瑞典马尔默　
感光性树脂组合物、使用它的感光性元件、光刻胶图案的制造方法及印刷电路板的制造方法 CN01811577日立化成工业株式会社日本东京都　
防止显影缺陷的方法和材料 CN01811661克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的方法 CN01811689东进半导体化学株式会社韩国仁川　
基于近红外分光计控制金属层蚀刻过程及再生用于金属层蚀刻过程的腐蚀剂的方法 CN01811690东进半导体化学株式会社韩国仁川　
涂覆方法和涂覆设备 CN01811806FSI国际公司美国明尼苏达　
制造导电图案用的材料和方法 CN01811836爱克发-格法特公司比利时莫策尔　
集成电路制造方法 CN01812451株式会社日立制作所日本东京　
形成平版印刷用填隙材料的组合物 CN01812504日产化学工业株式会社日本东京都　
用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法 CN01812974科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛　
晶片光刻法中显影工艺的改进方法 CN01813412硅谷集团公司美国加利福尼亚州　
热敏性平版在印刷机上显影 CN01813938加里·滕钢辉美国马萨诸塞州　
纳米电子电路的制造 CN01814961尤尼瑟驰有限公司澳大利亚新南威尔士悉尼　
压印制版用的透明模板与衬底之间间隙和取向的高精度控测方法 CN01815367得克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
用于平版印刷工艺中的高分辨率重叠对齐方法和系统 CN01815505得克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
影印用于平版印刷工艺中的自动化液体分配的方法和系统 CN01815560得克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
紫外线可固化树脂组合物以及包含该组合物的光防焊油墨 CN01815597互応化学工业株式会社日本国京都府　
紫外线固化树脂组合物以及包含该组合物的光防焊油墨 CN01815751互応化学工业株式会社日本国京都府　
双层制模白板及其制造工艺 CN01815867微激光系统公司瑞典泰比　
感光性元件、抗蚀图形的形成方法和印刷电路板的制造方法 CN01815901日立化成工业株式会社日本东京都　
利用光阻流修补针孔缺陷 CN01816179先进微装置公司美国加利福尼亚州　
含芳香酸抑制剂的光致抗蚀剂剥离剂/清洁剂组合物 CN01816265阿什兰公司美国俄亥俄　
抗蚀图、其制造方法及其应用 CN01816402日立化成工业株式会社日本东京都　
正感光性聚酰亚胺树脂组合物 CN01816823日产化学工业株式会社日本东京　
光引发反应 CN01816920林特弗德有限公司英国兰开夏　
微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂 CN01817217纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
正型光敏性环氧树脂组合物和采用该组合物的印制电路板 CN01818855万迪科股份公司瑞士巴塞尔　
形成图形的方法和在其中使用的处理剂 CN01818879克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
用激光结晶化法加工衬底上半导体薄膜区域的方法和屏蔽投影系统 CN01819257纽约市哥伦比亚大学托管会美国纽约市　
含有光刻胶组合物的多层元件及其在显微光刻中的应用 CN01819722纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用 CN01819800纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
聚合物中的保护基,光刻胶及微细光刻的方法 CN01819801纳幕尔杜邦公司美国特拉化州　
可辐射固化的组合物 CN01819953UCB公司比利时布鲁塞尔　
光固化性和热固化性树脂组合物 CN01820016学校法人神奈川大学;太阳油墨制造株式会社日本神奈川县　
用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板 CN01820435德克萨斯州大学系统董事会美国得克萨斯州　
离子注入之后清除光抗蚀剂的方法 CN01820981艾克塞利斯技术公司美国马萨诸塞州　
利用相移孔隙的投影式光刻 CN01821186因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
衰减极端紫外相移掩模的制造方法 CN01821300先进微装置公司美国加利福尼亚州　
微结构的制造方法 CN01821809国际商业机器公司美国纽约　
半导体显影剂 CN01822782胡茨曼石油化学公司美国得克萨斯　
抗蚀剂剥离剂组合物 CN01823274东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
抗蚀剂剥离剂组合物 CN01823277东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
抗蚀剂剥离剂组合物 CN01823279东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
半导体元件的图案转移的方法 CN02103086旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号　
感光性树脂层洗净用稀释剂 CN02103414株式会社德成韩国京畿道　
有机底部抗反射涂布层的蚀刻方法 CN02103423旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
化学放大型正性抗蚀剂组合物 CN02132225住友化学工业株式会社日本国大阪府　
生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法 CN02142837克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦兹　
化学放大抗蚀组合物 CN02152489三星电子株式会社韩国京畿道水原市　
负性感光树脂组合物和使用该组合物的显示装置 CN02800711克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
相移掩模 CN03120248海力士半导体有限公司韩国京畿道利川郡　
制作平滑的对角组件的数字光刻系统 CN03143097鲍尔半导体公司美国得克萨斯　
感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法 CN03145058东丽株式会社日本东京都　
阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法及其装置 CN03153502清华大学100084北京市海淀区清华园清华大学　
剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置 CN03154358东进化成工业株式会社韩国京畿道　
转移方法和有源矩阵基板的制造方法 CN03157964精工爱普生株式会社日本东京都　
包含复层滑动膜的激光成像印刷版 CN00818152麦克德米德图像技术有限公司美国佐治亚州　
自对准的混合工艺和元件 CN00818573康宁股分有限公司美国纽约州　
结晶衬底的对准方法和装置 CN00818696布克哈姆技术公共有限公司英国牛津郡　
感光性树脂组合物 CN00818775昭和高分子株式会社日本东京　
应用远紫外区辐射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备 CN00818880法国原子能委员会法国巴黎　
印刷电路板制造中的非线性图像畸变校正 CN00819083克雷奥以色列有限公司以色列赫兹利亚皮图阿　
利用氟化氩曝光光源制造半导体器件的方法 CN200310123524海力士半导体有限公司韩国京畿道　
光刻设备及装置制造方法 CN200410045154ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司荷兰维尔德霍芬　
复杂图案的相移掩膜 CN00819729数字技术公司美国加利福尼亚州　
用于印版处理的机器 CN00819884德格拉夫公司意大利埃马纽勒　
用于深紫外线辐射的光刻胶组合物 CN00816779科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法 CN00817711三星电子株式会社;克拉里安特国际有限公司韩国京畿道　
正型感光性树脂先质及其制造方法 CN99801861东丽株式会社日本东京　
制作金属相片的方法 CN200410033326钰德科技股份有限公司台湾省桃园县　
抗蚀材料以及利用该材料形成图案的方法 CN200510063016松下电器产业株式会社日本大阪府　
正型抗蚀剂组合物 CN200510062425东京应化工业株式会社日本神奈川县　
正型抗蚀剂组合物 CN200510062432东京应化工业株式会社日本神奈川县　
薄膜工件的切割方法 CN200410026777鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
图形曝光方法以及图形曝光装置 CN200510008894日立比亚机械股份有限公司日本神奈川　
一种调焦调平检测装置 CN200510025462上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
光刻设备及器件制造方法 CN200510059568ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置 CN200510062426富士胶片株式会社日本神奈川县　
曝光装置及方法 CN200510062475佳能株式会社日本东京　
曝光装置及器件制造方法 CN200510062563佳能株式会社日本东京　
光刻装置和器件制造方法 CN200510062626ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置及其曝光方法、校正方法 CN200510062944富士胶片株式会社日本神奈川县　
激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法 CN200510063772HOYA株式会社日本东京　
光刻设备和设备制造方法 CN200510071694ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置 CN200510059701HOYA株式会社日本东京　
光致抗蚀剂剥离剂组合物 CN200510063722东友FINE-CHEM株式会社韩国全罗北道　
用于将图案转印到物体的设备 CN03820323奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物 CN03820942可隆株式会社韩国光州市　
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