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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
用于制造曝光结构的方法和装置 CN03820925克列奥半导体技术有限商业两合公司德国泰特南　
用于小线条印刷的光刻方法 CN03820300皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
剥离液 CN03819876大金工业株式会社日本大阪府　
有中间检查薄膜层的改进的光学掩模 CN03820165美商福昌公司美国康涅狄格　
鎓盐和其作为潜酸的用途 CN01820057西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
用于相移式掩膜的原位平衡 CN02813250英特尔公司美国加利福尼亚州　
防止显影缺陷的方法及用于该方法的组合物 CN03813936AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
多层光刻模板 CN03814162飞思卡尔半导体公司美国得克萨斯　
光掩模 CN03814634富士通株式会社日本国神奈川县　
高耐热性负型光敏树脂组合物 CN03816534旭化成电子材料元件株式会社日本东京都　
使印刷电路板曝光的装置 CN03816681欧特玛-泰科公司法国瓦德渃尔　
形成防反射膜的组合物 CN03816991日产化学工业株式会社日本东京都　
用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法 CN03817037AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
图形尺寸校正装置和图形尺寸校正方法 CN03817041富士通株式会社日本国神奈川县川崎市　
投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法 CN03817253株式会社尼康日本东京都千代田区　
图案化光阻层的形成方法及其制造设备 CN200410006619联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
利用光掩模板作无源对准的方法 CN200410006726中国科学院半导体研究所100083北京市海淀区清华东路甲35号　
光刻装置及其应用方法 CN200410011467ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
压模制造方法 CN200410015531鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
形成反光图案的方法及其制品 CN200410028217宏桥科技股份有限公司台湾省台北市　
旋涂材料层的平坦化方法及光致抗蚀剂层的制造方法 CN200410033401茂德科技股份有限公司台湾省新竹科学工业园　
用于高数值孔径系统的静态和动态径向横向电偏振器 CN200410033526ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻胶组合物 CN200510067714罗姆及海斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
使用干涉成像光刻法的部件优化 CN200410082290ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光固化性·热固性树脂组合物和使用该组合物的印刷线路板 CN200510052170太阳油墨制造株式会社日本东京都　
平版印刷版原版 CN200510070973富士胶片株式会社日本国神奈川县　
非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形形成方法 CN200510054468东京应化工业株式会社日本神奈川县　
一种环保水乳型圆网感光胶 CN200510024727上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司201702上海市青浦区沪青平公路诸光路201号　
平版印刷版前体 CN200510054578富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置及器件制造方法 CN200510052979ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
平版印刷版前体 CN200510052458富士胶片株式会社日本神奈川县　
光敏树脂组合物、使用该组合物的喷墨记录头以及制造该喷墨记录头的方法 CN200480011699佳能株式会社日本东京　
制造半导体器件的标线片和方法 CN200510059080富士通株式会社日本神奈川县川崎市　
光掩模及用此制造图案的方法 CN200510073730海力士半导体有限公司韩国京畿道　
倍缩光刻掩膜的热监测器 CN200510079731台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
相配玻璃版及其制造和应用方法 CN200510126560吴剑秋马来西亚吉隆坡　
光掩模的制造方法 CN200510133813株式会社东芝日本东京都　
用于形成抗反射涂层的组合物 CN200510120497东京应化工业株式会社日本神奈川县　
感光树脂组合物及其制备方法、以及包含该组合物的感光胶膜 CN200510125866东进世美肯株式会社韩国仁川市　
遮光膜形成用感光性组合物、由该遮光膜形成用感光性组合物形成的黑底 CN200510127185东京应化工业株式会社日本神奈川县　
感光性树脂组合物 CN200510128651东丽株式会社日本东京都　
具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料 CN200510115296国际商业机器公司美国纽约　
抗蚀剂组合物 CN200510124725大赛璐化学工业株式会社日本大阪府　
正型感光性硅氧烷组合物、由其形成的固化膜、以及具备固化膜的元件 CN200510128535东丽株式会社日本东京都　
单次纳米压印制作深纳米T型栅的方法 CN200410009933中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
扫描仪系统 CN200510113503激光影像系统有限公司德国耶拿　
光刻系统中用于可变偏振控制的方法与设备 CN200510119369ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
利用激光束的识别码的打印方法和装置 CN200510125046东丽工程株式会社日本大阪市　
光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件 CN200510126772ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司荷兰维尔德霍芬　
衬底台、测量衬底位置的方法以及光刻装置 CN200510127016ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
扫描型曝光用光源单元 CN200510128663三荣技研股份有限公司日本国兵库县　
光刻装置以及器件制造方法 CN200510128823ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
柱状喷洒显影和雾状喷洒显影互换的显影装置 CN200410082838沈阳芯源先进半导体技术有限公司110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号　
感光树脂组合物和使用该感光树脂组合物的干膜抗蚀剂 CN200480012068东进世美肯株式会社韩国仁川市　
阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法 CN200510116654松下电器产业株式会社日本大阪府　
感光型聚酰亚胺薄膜是否偏移的叠对标志及其检测方法 CN200410089395上海宏力半导体制造有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号　
一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统 CN200510086952中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
一种消色差光变图像的制作方法 CN200510095777苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号　
面板表面图案制作方法 CN200510101938林其武518000广东省深圳市宝安区西乡镇共乐村铁仔路30号1栋3楼　
一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法 CN200510111117上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法 CN200510129549ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
基板处理装置 CN200510129564大日本网目版制造株式会社日本京都府　
基板处理装置以及基板处理方法 CN200510129566大日本网目版制造株式会社日本京都府　
基板处理装置 CN200510129567大日本网目版制造株式会社日本京都府　
抗蚀剂图案形成方法 CN200510131034三洋电机株式会社日本国大阪府　
光刻投影装置和致动器 CN200510131049ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200510131051ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
浸入式光刻中的衬底布置 CN200510137044ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
剥离剂组合物 CN200510125383花王株式会社日本东京都　
用于等离子显示屏电介质的组合物、电介质叠片和形成该电介质的方法 CN200480012735东京应化工业株式会社日本国神奈川县　
负性光致抗蚀剂组合物 CN200480012725东京应化工业株式会社日本神奈川县　
多透射相位掩模和使用其的曝光方法 CN200510067442海力士半导体有限公司韩国京畿道　
在感光材料表面覆盖并图形化碳基纳米结构的方法 CN200610023238上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
自增感负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法 CN200610023217上海交通大学200240上海市闵行区东川路800号　
一种水基显影有机硅改性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法 CN200510119124中国科学院长春应用化学研究所130022吉林省长春市人民大街5625号　
具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法 CN200510003559ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
基于线性模型的离轴信号处理方法 CN200510030807上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
一种精密定位和调整工装 CN200510112113上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统 CN200510126974三星电子株式会社韩国京畿道　
掩膜遮蔽变角度沉积制作纳米周期结构图形的方法 CN200510130719中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
用于制造液晶显示器的设备 CN200510132182LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
投影曝光装置中的同轴位置对准系统和对准方法 CN200610023153上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
一种自动对准装置 CN200610023154上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
投影曝光装置中的离轴位置对准系统和对准方法 CN200610023156上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
用于电子束光刻系统的电磁聚焦方法 CN200510092406三星电子株式会社韩国京畿道　
溶剂去除装置以及溶剂去除方法 CN200510137724精工爱普生株式会社日本东京　
感光性树脂组合物以及使用其制造印刷电路基板的方法 CN200480014468三井化学株式会社日本东京都　
珀耳帖模块 CN200420013079雅马哈株式会社日本静冈县　
一种印刷电路板曝光机结构 CN200520015934陈花明;陈花国100025北京市朝阳区八里庄东里38楼2单元23号　
可降低制造成本的光罩及其设计方法 CN200410104002卓越光掩膜科技有限公司中国香港　
多透射相位掩模及其制造方法 CN200510067255海力士半导体有限公司韩国京畿道　
检测光掩模数据库图案缺陷的方法 CN200510068836海力士半导体有限公司韩国京畿道　
反射光掩模及其制造方法 CN200510124778三星电子株式会社韩国京畿道　
纳米级别图形的压印制造方法及其装置 CN200410103902中国科学院电工研究所100080北京市海淀区中关村北二条6号　
去除相移掩模上生长的杂质的方法 CN200510136114海力士半导体有限公司韩国京畿道　
用于涂覆光刻胶图案的组合物 CN200510068848海力士半导体有限公司韩国京畿道　
感光性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板 CN200510138088JSR株式会社日本东京都　
感光性树脂组合物、显示面板用间隔体以及显示面板 CN200510138090JSR株式会社日本东京都　
光致抗蚀剂图案的形成方法以及修整方法 CN200410082014联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
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