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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法 CN200410098992中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
微型图像的制作方法 CN200410103534财团法人工业技术研究院台湾省新竹县竹东镇中兴路四段一九五号　
光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法 CN200510003503ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备及器件制造方法 CN200510003529ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法 CN200510003530ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、照明系统以及碎屑捕集系统 CN200510003545ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200510003546ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备及器件制造方法 CN200510003548ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200510003549ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置 CN200510126151LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
共平面开关模式液晶显示器以及其中定向层的制造方法 CN200510132703LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
带有色要素膜基板的制造方法及带有色要素膜基板 CN200510133820精工爱普生株式会社日本东京　
光刻装置和器件制造方法 CN200510134050ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
水平传感器、光刻设备以及器件制作方法 CN200510134128ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备和器件制造方法 CN200510134132ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架 CN200510135708信越化学工业株式会社日本东京都　
蚀刻方法及使用该方法的接触孔的形成方法 CN200510135720NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
用于光刻光束生成的方法和系统 CN200510137769ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统 CN200510137796ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法 CN200510137836ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
包含气体冲洗系统的辐射曝光装置 CN200510138085ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
湿蚀刻设备及湿蚀刻方法 CN200410091969鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
使用压印光刻制造的传感器 CN200480010955惠普开发有限公司美国德克萨斯州　
用于照相平版印刷的半导体纳米尺寸颗粒的应用 CN200480012054皮瑟莱根特科技有限责任公司美国弗吉尼亚州　
图案形成材料和图案形成方法 CN02802642松下电器产业株式会社日本大阪府　
微细图形形成材料以及微细图形形成方法 CN200480015273AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
用于去除光敏树脂的稀释剂组合物 CN200480015004东进世美肯株式会社韩国仁川　
遮蔽掩模图案的形成方法 CN200510092324三星SDI株式会社韩国京畿道　
一种用于实施全芯片制造可靠性检查和校正的方法 CN200510119977ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于制造半导体器件的相移掩膜 CN200510128564富士通株式会社日本神奈川　
用于光刻的柔性光掩模及其制造方法以及微构图方法 CN200510048843三星SDI株式会社韩国京畿道　
压印光刻 CN200510104720ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
分步重复光照纳米压印装置 CN200510126215中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
一种热敏CTP版的制造方法 CN200510022603高丽生225321江苏省泰州市高港区口岸镇江平路38号　
化学放大的阳性抗蚀剂组合物 CN200510048390住友化学株式会社日本东京都　
感光组合物、含该组合物的感光浆组合物及隔板形成方法 CN200510125865东进世美肯株式会社韩国仁川市　
光固化性/热固化性单液型阻焊剂组合物以及使用其的印刷电路板 CN200610000185太阳油墨股份有限公司日本东京都　
一种耐喷砂的乳剂型感光性树脂 CN200610041637彩虹集团电子股份有限公司712021陕西省咸阳市彩虹路1号　
光敏树脂组合物、由其制成的薄膜面板和薄膜面板的制法 CN200510137394三星电子株式会社;住友化学株式会社韩国京畿道　
一种利用喷墨成像原理的CTP直接制版方法和设备 CN200510132248中国科学院化学研究所100080北京市海淀区中关村北一街2号　
一种负型纳米压印方法 CN200510133650国家纳米技术产业化基地300457天津市经济技术开发区第四大街80号A2座二层　
修正掩模图案的方法、光掩模和半导体器件及其制造方法 CN200510137393索尼株式会社日本东京都　
光刻设备及器件制造方法 CN200510138200ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
产生具有光学邻近校正特征的掩模的方法和器件制造方法 CN200510116534ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光阻清洗剂 CN200510000184新应材股份有限公司台湾省桃园县　
一种用于形成具有圆筒载体的印刷印版的设备和工艺 CN200510138098E.I.内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法 CN200610005718长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社日本大阪　
扫描曝光方法以及装置制造方法 CN200510093213佳能株式会社日本东京都　
光掩模及视频器件的制造方法 CN200480015759HOYA株式会社日本东京都　
抗蚀图形膨胀用材料以及利用该材料构图的方法 CN02802632富士通株式会社日本神奈川　
具有全氟化多官能阴离子的光酸产生剂 CN2004800140823M创新有限公司美国明尼苏达州　
光敏树脂组合物的粘合促进剂和包含它的光敏树脂组合物 CN200480015867AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
抗蚀剂用显影剂组合物和形成抗蚀图案的方法 CN200480015871东京应化工业株式会社日本神奈川县　
一种自控液晶光阀组光刻快门机构 CN200520028103中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130031吉林省长春市东南湖大路16号　
印刷版材料和其显影方法 CN200510004415柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社日本东京都　
滤色器用着色组合物及滤色器 CN200510133802东洋油墨制造株式会社;凸版印刷株式会社日本东京都　
一种丝网印刷用漏印版的制作方法 CN200610041668彩虹集团电子股份有限公司712021陕西省咸阳市彩虹路1号　
芯片光刻制程中油浸式曝光方法 CN200510002157朱 晓100044北京市海淀区首体南路20号4号楼407室　
用于支撑和/或热调节基底、支撑台和夹盘的设备和方法 CN200510113862ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板 CN200510119148ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置、照明系统和过滤系统 CN200510121559ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光敏树脂组合物 CN200480016929AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
可光致固化的组合物和包括它的胶版印刷板 CN200580000438克拉通聚合物研究有限公司荷兰阿姆斯特丹　
可光固化树脂组合物 CN200480016383帝斯曼知识产权资产管理有限公司荷兰海尔伦　
浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置 CN200520102054浙江大学310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号　
光掩模和采用该光掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法 CN200510132004三星电子株式会社韩国京畿道　
掩膜及其制造方法及其应用 CN200610007373广辉电子股份有限公司台湾省桃园县　
用于应变硅MOS晶体管的金属硬掩模方法和结构 CN200510023524中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
制程控制方法及半导体制造方法 CN200510135407中国台湾积体电路制造股份有限公司台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
一种曝光方法及曝光处理装置 CN200610002085株式会社东芝日本东京都　
图案形成方法、滤色器及其制造方法、电光学装置 CN200610005012精工爱普生株式会社日本东京　
含有金刚烷基烷基乙烯醚的光敏聚合物及含有该聚合物的光阻剂组合物 CN200610005755三星电子株式会社韩国京畿道　
感光树脂组合物、由它制成的薄膜面板及其制备方法 CN200510121605三星电子株式会社;住友化学株式会社韩国京畿道　
涂敷、显影装置及其方法 CN200610006659东京毅力科创株式会社日本东京都　
涂敷·显影装置和涂敷·显影方法 CN200610006661东京毅力科创株式会社日本东京都　
涂敷、显影装置及其方法 CN200610006662东京毅力科创株式会社日本东京都　
同轴对准信号采集和处理控制方法及其关键子系统 CN200510112114上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
光刻装置,辐射系统和滤波系统 CN200510121555ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200510121556ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
可去除基板上静电的方法及其机台以及基座 CN200610004242友达光电股份有限公司中国台湾新竹市　
曝光装置以及曝光方法 CN200610005101株式会社尼康日本东京　
曝光设备及器件制造方法 CN200610006404佳能株式会社日本东京　
低压处理机台的维护方法及其输送装置 CN200610007764广辉电子股份有限公司台湾省桃园县　
多采集通道的串行数据传输系统及控制方法 CN200610023681上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
一种基于PGA的高精度模数转换装置及其控制方法 CN200610023682上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
从基体表面去除粘性材料的方法、处理液体和装置 CN200510121594皮瑞克斯股份有限公司;UMS有限公司日本神奈川县　
用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法 CN200610023683上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
可水显影光成像厚膜组合物 CN02820222E·I·内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
旋涂、可光致图案形成的层间介电材料的应用以及使用这种材料的中间半导体器件结构 CN200480016988微米技术股份有限公司美国爱达荷州　
用于远紫外光刻的光致抗蚀剂组合物 CN200480004743AZ电子材料美国公司美国新泽西　
使用灰度级光刻蚀法的粘合方法 CN200480017438陶氏康宁公司美国密执安　
用于抗蚀剂的显影剂组合物以及用于形成抗蚀剂图案的方法 CN200480017491东京应化工业株式会社日本神奈川县　
激光结晶用的光掩模图案结构与阵列 CN200610009270友达光电股份有限公司中国台湾新竹市　
用于电磁辐射的掩模及其制造方法 CN200510121654三星电子株式会社韩国京畿道　
掩模、掩模的制造方法、图形形成方法、布线图形形成方法 CN200610005011精工爱普生株式会社日本东京　
光刻胶组合物 CN200510128887罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
感光性树脂组合物 CN200610002253东进世美肯株式会社韩国仁川市　
感光性树脂组合物 CN200610002261东进世美肯株式会社韩国仁川市　
一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法 CN200510005742中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
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