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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
形成图形的方法 CN200510134618AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200610008927ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
显影液组成物 CN200510006257明德国际仓储贸易（上海）有限公司200131上海市外高桥保税区美盛路168号北楼5层A座　
碱液的制造方法、碱液及其应用、药液涂布装置及其应用 CN200610006126株式会社东芝日本东京都　
通过回流从较低层除去构图层的方法 CN200510048833NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
特别是用于立体平版印刷制备耳机的低粘度、可辐照固化的配制剂 CN200480017708德雷弗奥托塑胶有限责任公司德国翁纳　
抗蚀剂组合物 CN200480018411昭和电工株式会社日本东京都　
正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图案的方法 CN200480018215东京应化工业株式会社日本神奈川县　
适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用 CN200480018439空气产品及化学制品股份有限公司美国宾夕法尼亚州　
冲版机结构 CN200520000428旺昌机械工业股份有限公司中国台湾　
半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法 CN200610001086信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社日本东京都　
图案形成方法及装置、电敏感元件及滤色器的制造方法 CN200610007110精工爱普生株式会社日本东京　
一种制作相变存储器用的湿法刻蚀液及其湿法刻蚀工艺 CN200610024251中国科学院上海微系统与信息技术研究所200050上海市长宁区长宁路865号　
化学增幅型阴图PS版用感光组合物以及由此制备的化学增幅型阴图PS版 CN200510007283北京师范大学;广西玉林金龙PS版印刷材料有限公司100875北京市海淀区新街口外大街19号　
可光固化的树脂组合物及其制法和用途 CN200610024204上海昭和高分子有限公司201700上海市青浦工业园区新区路455号　
光刻胶组合物及用它形成薄膜图案的方法以及用它制备薄膜晶体管阵列板的方法 CN200610007140三星电子株式会社;株式会社三养EMS韩国京畿道　
正型光阻剂组成物及其应用 CN200510007934明德国际仓储贸易（上海）有限公司200131上海市外高桥保税区美盛路168号北楼5层A座　
涂敷·显影装置 CN200610004791东京毅力科创株式会社日本东京都　
避免ZEP520电子抗蚀剂产生裂纹的方法 CN200510006189中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件 CN200510121657ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
半导体元件及其制程方法 CN200510123786台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
图案形成方法 CN200610051390松下电器产业株式会社日本大阪府　
从基底上去除光致抗蚀剂的方法 CN200480019282兰姆研究公司美国加利福尼亚　
正型感光性树脂组合物 CN200480019174日产化学工业株式会社日本东京　
光敏树脂组合物 CN200480019330AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
抗蚀剂组合物,层压材料和形成抗蚀图案的方法 CN200480019259东京应化工业株式会社日本神奈川县　
提供改良的双层光刻胶图案的方法 CN200480019216兰姆研究有限公司美国加利福尼亚州　
一种印刷制版方法及其印刷版 CN200380100187王柏枝中国北京市大兴区兴政东里18号702室　
正型感光性树脂组合物 CN200480017404旭化成电子材料元件株式会社日本东京都　
在浸润光刻系统中监视及控制成像的方法 CN200480019532先进微装置公司美国加利福尼亚州　
蚀刻构图的硅氧烷层的方法 CN03826965陶氏康宁公司美国密执安　
光敏树脂组成物、薄膜面板及其制造方法 CN200610003303三星电子株式会社韩国京畿道　
感光性树脂组合物、及其固化物和由该固化物形成的显示板用间隔物 CN200610003062太阳油墨股份有限公司日本东京都　
显示板用感光性树脂组合物、及其固化物和显示板用间隔物 CN200610003542太阳油墨股份有限公司日本东京都　
深紫外负性光刻胶及其成膜树脂 CN200610038786苏州华飞微电子材料有限公司215011江苏省苏州市苏州新区灵岩街16号　
深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 CN200610038787苏州华飞微电子材料有限公司215011江苏省苏州市苏州新区灵岩街16号　
提高图案化性能的光阻剂 CN200610003206三星电子株式会社韩国京畿道　
正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法 CN200610007164东京应化工业株式会社日本神奈川县　
正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法 CN200610007165东京应化工业株式会社日本神奈川县　
喷墨型计算机直接制版胶印版 CN200610011515石深泉065001河北省廊坊市开发区四海路翠表青南道29号　
涂布、显像装置和涂布、显像方法 CN200610003290东京毅力科创株式会社日本东京都　
一种用负性化学放大抗蚀剂曝光亚50nm图形的方法 CN200510008008中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
用电子束大小电流混合一次曝光制备X射线掩模的方法 CN200510008009中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
光刻制程中对掩膜图案进行光学邻近修正的方法 CN200510023931中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号　
半导体制程中的微影系统及其方法和用于其中的光罩 CN200610003267台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
光刻系统及保持其中光学结构之间光学缝隙的设备和方法 CN200610004457ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
台架控制设备和方法，台架设备和曝光设备 CN200610004770佳能株式会社日本东京　
曝光装置 CN200610007356株式会社ORC制作所日本东京　
清洗装置、涂布·显影装置以及清洗方法 CN200610008997东京毅力科创株式会社日本东京都　
光强数据总线系统及其总线控制器 CN200610024784上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
光强数据总线系统及方法 CN200610024785上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
在发光二极管上制作光子晶体掩膜层的方法和装置 CN200610049850浙江大学310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号　
光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法 CN200510051613联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
负型感光性树脂组合物及负型感光性元件 CN200480020458日立化成工业株式会社日本东京都　
用于光敏组合物的显影液和形成图案化抗蚀膜的方法 CN200480020014AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
用于形成精细图形的材料和使用该材料形成精细图形的方法 CN200480020562AZ电子材料（日本）株式会社日本国东京都　
灰调掩模的制造方法及灰调掩模 CN200610008320HOYA株式会社日本东京　
光掩模及其制造方法 CN200610008641三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻胶组合物 CN200510128708罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
光敏胶组合物及使用该组合物制造的等离子体显示板 CN200610002498三星SDI株式会社韩国京畿道　
抗蚀图案增厚材料及抗蚀图案形成工艺和半导体器件及其制造工艺 CN200610005432富士通株式会社日本神奈川县　
蚀刻剂组合物和薄膜晶体管阵列板的制造方法 CN200610006210三星电子株式会社韩国京畿道　
感光树脂组合物 CN200610007054住友化学株式会社日本国东京都　
一种碱溶性光敏树脂及其制备方法 CN200610025330东华大学201620上海市松江新城区人民北路2999号　
一种适合于酸产生剂的盐及含有它的化学放大型抗蚀剂组合物 CN200610067361住友化学株式会社日本东京都　
焊锡抗蚀剂油墨组合物 CN200610004913太阳油墨制造株式会社日本东京　
隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法和液晶显示元件 CN200510008541JSR株式会社日本国东京都　
含有树脂掺合物的光刻胶组合物 CN200610005454罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
正型光阻组合物及其制备方法与应用 CN200610008521信越化学工业株式会社日本东京都　
用于制作隔离壁的曝光方法 CN200510008087胜华科技股份有限公司台湾省台中县　
光刻装置和器件制造方法 CN200510137056ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光方法和装置 CN200510137365富士胶片株式会社日本神奈川县　
对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置 CN200610037797苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号　
光刻装置和器件制造方法 CN200610059227ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
有机溶剂再生系统 CN200610007433显示器生产服务株式会社韩国京畿道　
包含氟化物的水基除渣剂 CN200610008941气体产品与化学公司美国宾夕法尼亚州　
负型抗蚀剂组合物及图像形成方法 CN200610059991信越化学工业株式会社日本东京　
成膜方法/装置、图形形成方法及半导体器件的制造方法 CN200610072041株式会社东芝日本东京都　
光刻装置和器件制造方法 CN200610004195ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
抗蚀剂图形形成方法和半导体器件的制造方法 CN200610058208株式会社东芝日本东京都　
离轴投影光学系统和使用该系统的超紫外线光刻装置 CN200610059996三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻装置和器件制造方法 CN200610071537ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于监视和控制在沉浸光刻系统中成像的方法和设备 CN200480020864先进微装置公司美国加利福尼亚州　
光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统 CN200480021018安格斯公司美国明尼苏达　
涂胶显影设备的结构 CN200520091969沈阳芯源先进半导体技术有限公司110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号　
光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法 CN200610055091英飞凌科技股份公司德国慕尼黑　
掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法 CN200610059705精工爱普生株式会社日本东京　
感光性树脂组合物 CN200510128661日立化成工业株式会社日本东京都　
抗蚀剂组合物和在基材上形成图案的方法 CN200610054997国际商业机器公司美国纽约　
感光性糊剂、以及使用其形成的烧成物图案 CN200610058327太阳油墨股份有限公司日本东京都　
用于形成抗反射涂层的聚合物 CN200610058604株式会社东进世美肯韩国仁川广域市　
用于形成抗反射涂层的聚合物 CN200610058605株式会社东进世美肯韩国仁川广域市　
感光性树脂组合物 CN200610058611东进世美肯株式会社韩国仁川市　
用於制备重氮正像感光纸的调色促进剂 CN200610018750武汉瑞阳化工有限公司430035湖北省武汉市桥口区舵落口工农路23号　
含硅偶联剂的193nm光刻胶及其成膜树脂 CN200610039385苏州华飞微电子材料有限公司215011江苏省苏州市苏州新区灵岩街16号　
抗反射膜和曝光方法 CN200610073937索尼株式会社日本东京都　
与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物 CN200610073949罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
光刻工艺产品的识别方法 CN200510008666展茂光电股份有限公司台湾省桃园县平镇市　
一种微细光刻图案方法 CN200510024213中芯国际集成电路制造（上海）有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
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