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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
改进的光刻方法 CN200480040564伯明翰大学英国伯明翰　
物镜中光学元件的保持器件 CN200480040835卡尔蔡司SMT股份公司;ASML荷兰有限公司德国上科亨　
用于热显影柔性版印刷套筒的装置和方法 CN200580001941麦克德米德印刷方案股份有限公司美国康涅狄格州　
印版加热炉的改进及其相关的改进 CN200480035408海特斯（英国）有限公司英国西约克郡　
超支化聚酯微光学光刻胶的连续生产装置 CN200520067675湛江师范学院524048广东省湛江市赤坎寸金路29号湛江师范学院科技处　
执行双重曝光光刻的方法、程序产品和设备 CN200610099635ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
X射线光刻掩模版的制备方法 CN200610030241上海大学200444上海市宝山区上大路99号　
设计掩模的方法 CN200510089328联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
光固化性组合物和液晶显示装置用光学隔块以及光固化性着色组合物 CN200610109148富士胶片电子材料有限公司日本国东京都　
镀制造型物制造用正型感放射线性树脂组合物、转印膜以及镀制造型物的制造方法 CN200610110936捷时雅株式会社日本东京　
用于印版曝光器中激光器组件的温度调节的装置 CN200610108204海德堡印刷机械股份公司德国海德堡　
透镜位置控制方法及装置、刻录方法以及刻录装置 CN200610159384索尼株式会社日本东京都　
显影处理装置以及显影处理方法 CN200610109163东京毅力科创株式会社日本东京都　
用于检测标线设计数据中的缺陷的计算机实现方法 CN200580003027克拉-坦科技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
光罩/掩模系统的自适应实时控制 CN200580003080东京毅力科创株式会社日本东京都　
感光性无机膏状组合物、未烘烤片状体、以及等离子显示器前面板的制造方法 CN200580003023东京应化工业株式会社日本神奈川　
感光性树脂组合物及其固化产物 CN200580003090日本化药株式会社日本东京　
使用微球体的无加工的数字成像的光聚合物元件 CN200580002030麦克德米德印刷方案股份有限公司美国康涅狄格州　
正型感光性组合物 CN200580002009株式会社新克日本国千叶县　
偏振调制光学元件 CN200580002241卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
具有半自动上下版装置用于印刷行业的计算机直接制版机 CN200620022754北京佳萌锐普科技发展有限公司102600北京市大兴区工业开发区金辅路甲2号凯驰大厦A101　
具有自动分区抽真空和配重装置的制版机 CN200620022755北京佳萌锐普科技发展有限公司102600北京市大兴区工业开发区金辅路甲2号凯驰大厦A101　
带遮光膜基板、彩色滤光片基板及它们的制造方法以及具备带遮光膜基板的显示装置 CN200610107794三菱电机株式会社日本东京都　
曝光掩模以及使用其的半导体器件的制造方法 CN200610114822株式会社半导体能源研究所日本神奈川县厚木市　
曝光掩模 CN200610114953株式会社半导体能源研究所日本神奈川县厚木市　
于高尔夫球杆头表面刻蚀纹路的制造方法及其纹路结构 CN200510090027明安国际企业股份有限公司台湾省高雄市　
着色剂分散液及使用它的感光性组合物 CN200610109071东京应化工业株式会社日本神奈川　
用于形成功能性图案的感光性树脂组合物及功能性图案的形成方法 CN200610111146东京应化工业株式会社日本神奈川　
均匀涂布基片的方法 CN200610100516ASML控股公司荷兰费得霍恩　
用于光刻胶的阻挡涂敷组合物及使用该组合物形成光刻胶图形的方法 CN200610101176三星电子株式会社韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416番地　
电子束图形扫描处理器 CN200510086210中国科学院电工研究所100080北京市北京海淀区中关村北二条6号　
电子束曝光中套刻工艺的实现方法 CN200610030768中国科学院上海微系统与信息技术研究所200050上海市长宁区长宁路865号　
曝光装置及曝光方法 CN200610115461株式会社ORC制作所日本东京　
去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法 CN200510089655联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
功能化学引发剂 CN200580003803西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
光刻胶组合物和使用方法 CN200580003633微量化学公司;日本化药株式会社美国马萨诸塞　
使用可去除硬掩模制造光罩的方法 CN200580003453应用材料公司美国加利福尼亚州　
微平版印刷投影曝光装置的投影物镜 CN200480041615卡尔蔡司SMT股份有限公司德国上科亨　
光掩模与校正曝光机台的方法 CN200510091968力晶半导体股份有限公司中国台湾新竹市　
包括环烯烃共聚物的压印印模 CN200610110802奥布杜卡特公司瑞典马尔默　
酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物 CN200610126701JSR株式会社日本东京　
感光性树脂组合物、显示面板用隔垫和显示面板 CN200610141922JSR株式会社日本东京都　
感光性树脂组合物、显示面板用间隔物及显示面板 CN200610141923JSR株式会社日本东京都　
正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 CN200610151829东京应化工业株式会社日本神奈川县　
顶部抗反射涂料聚合物、制法及顶部抗反射涂料组合物 CN200510091951海力士半导体有限公司韩国京畿道　
用以制造半导体元件的最佳化模组的近接校正 CN200610103932台湾积体电路制造股份有限公司中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号　
浸润式光刻的方法及其处理方法 CN200610109531台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
光刻图形的形成方法 CN200610112157台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
个性化隐形眼镜定制设备 CN200610113048中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
使用浸没光刻工艺制造半导体器件的方法 CN200610121212海力士半导体有限公司韩国京畿道　
选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件 CN200610135759ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
液体处理方法和液体处理装置 CN200610111028东京毅力科创株式会社日本东京都　
剥离剂 CN200610108623罗门哈斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
掩模检查装置和方法 CN200580004179皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
感光性树脂组合物及其固化物 CN200580004391日本化药株式会社日本东京　
可固化树脂组合物、滤色器和液晶显示装置 CN200580005028三菱化学株式会社日本东京都　
光刻装置和校准方法 CN200480041978ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
多射束图像增强 CN200580004188麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
光刻装置和测量方法 CN200480041713ASML荷兰有限公司荷兰费尔德霍芬　
机械双网涂胶机 CN200520126484张照利262500山东省潍坊市青州市东方中路588号　
晒版机的软片涂粉装置 CN200620109880谢映明400010重庆市渝中区中山二路26号8-4　
一种铂钛金属薄膜图形化技术 CN200510010975昆明物理研究所650223云南省昆明市教场东路31号　
压印光刻装置及其方法 CN200510135972三星电子株式会社韩国京畿道　
印版制造方法 CN200610086460LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
蚀刻带及使用该蚀刻带制造液晶显示器的阵列基板的方法 CN200610091556LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
一种用于纳米材料合成的催化剂的定位方法 CN200610113179北京大学100871北京市海淀区颐和园路5号北京大学　
感光性浆料 CN200610111371住友化学株式会社日本东京都　
感光性浆料 CN200610111372住友化学株式会社日本东京都　
一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法 CN200510029043上海华虹NEC电子有限公司;上海集成电路研发中心有限公司201206上海市川桥路1188号718　
激光微影装置 CN200510036903鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
潜像叠对量测方法 CN200510127112ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光致抗蚀剂残渣、聚合物残渣除去组合物和残渣除去方法 CN200510092787关东化学株式会社日本东京都　
用于去除透明导电膜及光致抗蚀剂的剥离液组合物 CN200610111383东进世美肯株式会社韩国仁川市　
抗蚀剂除去方法以及抗蚀剂除去装置 CN200610125701大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
电子装置的制造系统 CN200610138995株式会社东芝日本东京都　
用于可激光雕刻的印刷基底的感光树脂组合物 CN200580006093旭化成化学株式会社日本东京都　
凸点形成用双层层积膜及凸点形成方法 CN200580005594捷时雅株式会社日本东京　
投影光学系统 CN200480035968卡尔蔡司SMT股份有限公司德国上科亨　
信息管理和跟踪系统(IMTS) CN200580005557凯文迪什动力学有限公司英国赫特福德郡　
确定成像系统中的图像模糊 CN200580005620皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法 CN200580005833麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
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