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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
具有低金属离子含量的表面活性剂和由其产生的显影剂的生产方法 CN96197057克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦兹　
光敏树脂组合物 CN96199174株式会社可隆韩国汉城　
光敏正作用光敏组合物及其生产方法 CN96199202克拉里安特国际有限公司瑞士穆提茨　
万能快速制版机 CN96203131任细川050051河北省石家庄市新华路二段150号石家庄开发区发达特种印刷开发公司　
垂直式蚀刻机的ＰＣ板传动装置 CN96212261郭昭仁台湾省高雄县凤山市文澄街１１９号１７楼　
带有环尺的掩模版 CN96213029中国科学院长春光学精密机械研究所(130022)吉林省长春市斯大林大街１１２号　
触持阴极离子束刻蚀机 CN96229574上海华洋工贸公司(200135)上海市浦东杨高中路２７０９号　
重氮复印机显影部分手动控制装置 CN96230695王英甫(200062)上海市曹阳三村２１８号４０３室　
一种紫外（ｉ线）投影光刻光学透镜系统 CN96232948中国科学院光电技术研究所(610209)四川省双流３５０信箱　
一种制版清洗工艺中的洗刷装置 CN96237480陈健辉(510445)广东省广州市龙归园下村六队　
一种制版清洗工艺中洗版刷的驱动机构 CN96237481陈健辉(510445)广东省广州市龙归园下村六队　
一种制版工艺中的冲洗装置 CN96237487陈健辉(510000)广东省广州市云鹤北街十六巷３号　
一种制版工艺中的曝光装置 CN96237488陈健辉(510000)广东省广州市云鹤北街十六巷３号　
用于光敏树脂印板的显影剂和制备光敏树脂印板的方法 CN97102492旭化成工业株式会社日本大阪府　
制造彩色预打样和在其中有用的中间接收元件及顶板的方法 CN97103156伊斯曼柯达公司美国纽约州　
一种定位周期配置的亚微米物体的自动化和非可见方法 CN97109583国际商业机器公司德国慕尼黑　
含有丙烯酸官能团UV稳定剂的光成象组合物 CN97110513莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
正型光敏树脂组合物和使用它的半导体装置 CN97111184住友电木株式会社日本东京都　
用于支持平板曝光装置布线图的设备 CN97111188奥托玛-泰克公司法国雷维尔　
光学设备的照明单元 CN96193465ＡＳＭ石版印刷公司荷兰维也德霍芬　
集成电路的布图的制作方法 CN97100395联华电子股份有限公司中国台湾　
光敏性树脂组合物成像过程的方法 CN97102015住友电木株式会社日本东京都　
水可显影的光敏聚氨酯－（甲基）丙烯酸酯 CN97102947ＰＴ莎布公司美国特拉华州　
对于高粘度光刻胶涂层的无条纹涂敷方法 CN97104658世界先进积体电路股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
紫外线可固化的组合物和从其制备固化产物图案的方法 CN97109682陶氏康宁亚洲株式会社日本神奈川县　
光刻胶剥离液管理装置 CN97110797株式会社平间理化研究所; 长濑产业株式会社日本神奈川县　
采用乙烯吡咯烷酮聚合物的可水显影光敏厚膜组合物 CN97111419纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
通过布线图曝光双面印刷电路板的装置 CN97111563奥托玛－泰克公司法国雷维尔　
一种阴图预涂感光版及其制法 CN97111920北京大学(100871)北京市海淀区中关村北京大学　
用于半导体器件制备的显影设备及其控制方法 CN97113629三星电子株式会社韩国京畿道　
高分辨率的正作用干膜光致抗蚀剂 CN97114183莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
含紫外反应聚合粘合剂的液态光聚合的焊接掩模组合物 CN97115142大东商事株式会社韩国京畿道　
光刻胶组合物 CN97115414三星电管株式会社韩国京畿道　
一种光敏重氮盐感光剂及其制备方法和应用 CN97117225本溪市轻化工研究所(117000)辽宁省本溪市解放北路１０２号　
改进光象质量的方法 CN97118239希巴特殊化学控股公司瑞士巴塞尔　
敏射线组合物 CN97119096克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨１　
新的光致抗蚀剂共聚物 CN97119099现代电子产业株式会社韩国京畿道　
水性阴图预涂感光版及其制法和用途 CN97119956北京大学(100871)北京市海淀区中关村北京大学　
单组分光成像液体阻焊剂及其制法 CN97120324中国科学院感光化学研究所(100101)北京市朝阳区大屯路甲３号内　
树脂刻蚀溶液和刻蚀方法 CN97121389东丽工程株式会社日本大阪　
制作印刷模板的方法和装置 CN97122191库夫施泰因模板技术股份公司奥地利库夫施泰因　
化学增强的抗蚀组合物 CN97122568三星电子株式会社韩国京畿道　
滚涂用敏射线组合物 CN97125721克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
滚涂用敏射线组合物 CN97125722克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途 CN97125853中国科学院感光化学研究所(100101)北京市朝阳区大屯路甲３号内　
在镀金薄膜上的接触印刷方法 CN97180838金伯利－克拉克环球有限公司美国威斯康星州　
通过离子交换法来减少含有机极性溶剂的抗光蚀剂组合物中的金属离子污染物的方法 CN97181389克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
利用聚焦激光辐射在光敏涂敷衬底上制作结构的方法与装置 CN97181583微激光系统公司瑞典泰比　
超过传统分辨率极限的光刻方法 CN97182380国际商业机器公司美国纽约　
获得剥脱成像图案的方法 CN97190154克拉里安特国际有限公司瑞士幕腾兹　
差分干涉仪系统和配有该系统的平版印刷分步扫描装置 CN97190435ＡＳＭ石版印刷公司荷兰维也德霍芬　
抗蚀剂的显影方法以及显影装置 CN97190887精工爱普生株式会社日本东京都　
三维蚀刻方法 CN97192752英国国防部英国汉普郡　
正性光刻胶组合物的热处理方法 CN97192770克拉里安装国际有限公司瑞士穆坦茨　
正性光刻胶组合物的热处理方法 CN97192771克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦茨　
由于折射率最优化得到的具有改进了性能的光吸收防反射涂层 CN97192776克拉里安装国际有限公司瑞士穆坦茨　
通过反常色散改变折射率的底面抗反射涂层 CN97192868克拉里安特国际有限公司瑞士穆藤斯　
包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物 CN97193958Ｂ·Ｆ·谷德里奇公司美国俄亥俄州　
衰减镶嵌相移光掩模空白片 CN97194798杜邦光掩公司美国德克萨斯州　
光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品 CN97194799纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
氨基彩色发色团的金属离子含量的降低及其用于合成光致抗蚀剂的低金属含量抗反射底涂? CN97195252克拉里安特国际有限公司瑞士穆提茨　
光聚合热固树脂组合物 CN97195922范蒂科股份公司瑞士巴塞尔　
光掩模坯 CN97196087纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
含２，４－二硝基－１－萘酚的正性光刻胶组合物 CN97197072克拉里安特国际有限公司瑞士穆提茨　
感光树脂组合物用抗反射涂料 CN97197198克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦兹　
光刻胶组合物用的水性抗反射涂料 CN97197298克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦茨　
用于高感光的高分辨性Ｉ－谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物 CN97197557西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
用于生产丝网印刷印版的方法和包括一涂覆丝网网膜的丝网印刷印版 CN97197967赛法股份公司瑞士塔尔　
含芳基联亚氨基染料的抗反射底涂料 CN97198408克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
含有芳基联亚氨基染料的光敏组合物 CN97198409克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层 CN97198410克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
光敏组合物及其用途 CN97198548三洋化成工业株式会社日本京都府京都市　
铝版基平印预涂双面感光版 CN97200344李芬; 张才100043北京市石景山区西井村26号李芬　
无氨自动分离重氮复印机 CN97206643上海延中复印机厂(200072)上海市沪太路７９９号　
多功能拷贝机 CN97233788郭端平(250002)山东省郎茂山小区四区２２号楼３单元１０１号　
一种共聚物、其制备方法、含该共聚物的组合物和装置及该装置的制备 CN98100324现代电子产业株式会社韩国京畿道　
一种画面的制作方法 CN98100386林鸿学(230011)安徽省合肥市大窑湾省交通厅宿舍３区１幢３０２室　
曝光用光掩模及其制造方法 CN98100557日本电气株式会社日本东京　
电子束曝光系统及其使用方法 CN98100690日本电气株式会社日本国东京都　
化学增强的光刻胶 CN98100726日本电气株式会社日本国东京都　
化学增强的光刻胶 CN98100895日本电气株式会社日本国东京都　
原位同步光聚合光生色成像材料组合物及其制法与用途 CN98100898中国科学院感光化学研究所(100101)北京市朝阳区大屯路甲３号　
包括有可变透光率的遮光层的掩模 CN98101003日本电气株式会社日本东京　
使用移动平台的电子束曝光方法 CN98101487日本电气株式会社日本国东京都　
感光性树脂组合物及使用该树脂组合物的显示元件 CN98103166智索股份有限公司日本大阪府　
投影曝光装置及方法、振幅象差评价方法及象差消除滤光器 CN98103875三菱电机株式会社日本东京都　
正色调可光致成像并可交联的涂料 CN98105309莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
一种耐酸耐碱的圆网制版感光胶 CN200510024724上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司201702上海市青浦区沪青平公路诸光路201号　
水乳型圆网感光胶 CN200510024728上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司201702上海市青浦区沪青平公路诸光路201号　
网板印刷用金属掩模版 CN200410081787SMK株式会社日本东京　
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 CN200510064839东京应化工业株式会社日本神奈川县　
无掩模光学写入器 CN200510004345ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
基于OPC模型的本征分解 CN200410099729ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种图案形成方法 CN200510003896松下电器产业株式会社日本大阪府　
布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法 CN200510054376松下电器产业株式会社日本大阪府　
曝光装置及方法 CN200510051291三星电子株式会社韩国京畿道　
实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法 CN200510053816株式会社东进世美肯韩国仁川广域市　
光刻装置、洛伦兹致动器、及器件制作方法 CN200510054385ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备及器件制作方法 CN200510054499ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
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