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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
曝光装置和定位方法 CN200510059078株式会社阿迪泰克工程日本东京　
一种化学放大型正光刻胶组合物 CN200510056001住友化学株式会社日本国东京都　
蚀刻用组合物及蚀刻处理方法 CN200510056507东曹株式会社;大日本屏幕制造株式会社日本山口县　
图形形成材料、以及图形形成装置和图形形成方法 CN200510059449富士胶片株式会社日本神奈川县　
正性光刻胶的制作方法 CN200410014386林广德212124江苏省镇江市丹徒区上会镇新宇化工有限责任公司　
球表面带有永久性图文的金属制品的制备方法及金属地球仪 CN200410023823赵文贤255400山东省淄博市临淄桓公北巷12-1-101户　
一种应用于光学光刻系统的孔径盘 CN200410031218南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
提高曝光直线的标准影像对数斜率的方法 CN200410031219南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
具有可变快门的曝光机台及其曝光方法 CN200410031244力晶半导体股份有限公司台湾省新竹市　
光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序 CN200410031738力晶半导体股份有限公司台湾省新竹市　
采用光刻和干刻制造碳纳米管多层图案的方法 CN200410085905韩国科学技术院韩国大田广域市　
光刻机成像质量的检测方法 CN200510025281中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市800-211邮政信箱　
载置台装置及曝光装置 CN200510054885佳能株式会社日本东京　
图形形成方法和半导体器件的制造方法 CN200510056975株式会社东芝日本东京都　
确定光刻装置的投影系统的像差的方法 CN200510062763ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，器件制造方法和可变衰减器 CN200510065529ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法 CN03818746三菱化学株式会社日本东京　
可聚合组合物,聚合物,抗蚀剂及蚀刻方法 CN03817362因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
用于中间层电介质的光敏组合物和形成图案化中间层电介质的方法 CN03819630AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
将衬底在工作台上对齐的方法 CN03819767麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
包含聚合物磺酸盐酸产生剂的辐射敏感组合物及其在成像中的用途 CN03812607柯达彩绘图案有限公司美国康涅狄格　
用于把掩模投影到衬底上的方法和装置 CN03812896海德堡显微技术仪器股份有限公司德国海德堡　
用于微电子基底的清洁组合物 CN03813026马林克罗特贝克公司美国密苏里州　
包含氧化剂和有机溶剂的微电子清洁组合物 CN03813035马林克罗特贝克公司美国密苏里州　
曝光头及曝光装置和它的应用 CN03813191富士胶片株式会社;富士能株式会社日本神奈川县　
包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物 CN03813607AZ电子材料日本株式会社日本东京　
纳米印章技术中纳米级模板的制备方法 CN200410065998南京大学210093江苏省南京市汉口路22号　
用于测量和校正对准误差的叠层标记 CN200410075896三星电子株式会社韩国京畿道　
光刻制程、掩膜版及其制造方法 CN200410083999台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
基于紫外半导体光源的桌面光造型装置 CN200420027831南京师范大学210097 江苏省南京市宁海路122号　
成像组合物及方法 CN200510008147罗姆及海斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
光刻装置和器件制造方法 CN200510009073ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法 CN200510009077ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种多自由度运动和定位装置 CN200510024172上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
一种曝光装置 CN200510024642上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法 CN200510060091ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂 CN03821613国际商业机器公司美国纽约州　
光刻胶剥离剂组合物 CN03821966东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
用于对衬底侧面进行布线的光刻方法 CN03823110皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
193nm抗蚀剂 CN03823350国际商业机器公司美国纽约州　
多层分划板 CN200380100157硅系统制造有限公司新加坡第一帕舍里斯大道　
产生模拟曝光工具成像性能模型的方法、装置和程序产品 CN200510054176ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200510054227皇家飞利浦电子股份有限公司;ASML荷兰有限公司荷兰艾恩德霍芬　
氰基金刚烷基化合物和聚合物和含有它们的光致抗蚀剂 CN200510054399罗姆及海斯电子材料有限公司美国马萨诸塞州　
光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件 CN200510062625ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置及器件制造方法 CN200510064163ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统 CN200510064380台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法 CN200510067290LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
平版印刷装置和器件制造方法 CN200510069735ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光学掩模及利用该掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法 CN200510064031三星电子株式会社韩国京畿道　
光敏半导体纳米晶和包含其的光敏组合物及其用途 CN200410102383三星电子株式会社韩国京畿道　
感光性转印片 CN200510002496富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法 CN200510005032富士胶片株式会社日本神奈川县　
感放射线性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板 CN200510005113JSR株式会社日本国东京都　
浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法 CN200410056848台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号　
用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统 CN200510004811国际商业机器公司美国纽约　
投影曝光装置、器件制造方法和传感器单元 CN200510008248佳能株式会社日本东京　
步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法 CN200510024229上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法 CN200510009433三星电子株式会社韩国京畿道　
以光微影结构化半导体基板的光罩的制造方法 CN03812374因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
光刻掩模制造 CN02823847英特尔公司美国加利福尼亚州　
在晶片处理中低电介质材料的钝化方法 CN03805235东京毅力科创株式会社日本东京都　
选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用 CN03811876柯达彩绘图案有限公司美国康涅狄格　
感光性树脂组合物和耐热性树脂膜的制造方法 CN03812102东丽株式会社日本东京都　
放射线敏感性树脂组合物、树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的应用 CN03811985日本瑞翁株式会社日本东京都　
多光子光敏化体系 CN038235393M创新有限公司美国明尼苏达州　
掩模图形修正法 CN03823622索尼株式会社日本东京都　
平面无机器件 CN038236703M创新有限公司美国明尼苏达州　
具有无机粒子的多光子活性组合物及制造结构的方法 CN038236733M创新有限公司美国明尼苏达州　
光掩模和其制造方法及图形形成方法 CN03823713富士通株式会社日本神奈川县川崎市　
光掩膜及半导体器件的制造方法 CN03823714富士通株式会社日本国神奈川县　
光致抗蚀剂基材及其精制方法、和光致抗蚀剂组合物 CN03824240出光兴产株式会社日本东京　
苯胺印刷版，苯胺印刷装置，苯胺印刷版的制造方法和印刷物的制造方法 CN03824490夏普株式会社;日立产业有限公司;株式会社杜小村技术日本大阪市　
采用微光刻技术制作缩微汉字的方法 CN200510011686中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置 CN200510049773浙江大学310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号　
图案细微化用涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法 CN03815397东京应化工业株式会社日本神奈川县　
用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法 CN03815458AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
可见光感光性组合物 CN03815690协和发酵化学株式会社日本东京都　
极高孔径的投影物镜 CN03815782卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
基于多环聚合物的感光组合物 CN03815809住友电木株式会社日本东京　
使用无定形碳层改善光栅制造的方法 CN03815818先进微装置公司美国加利福尼亚州　
掩模以及使用掩模的制造方法 CN03815898皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
用于干膜抗蚀剂的热稳定的光固化树脂组合物 CN03816061西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
具有照明源的光学装置 CN03816145卡尔蔡司SMT股份有限公司德国上科亨　
正型感光性组合物用显影剂 CN200410007888株式会社新克日本千叶县　
光阻用显影液浓度管理方法与管理装置 CN200410070411西村保二;株式会社凯密日本石川　
亚波长光刻的实施相平衡散射条放置模型的方法及其装置 CN200410099792ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种偏振光瞳器件及其在投影光刻系统中的应用 CN200510011373中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
高效水乳型圆网感光胶 CN200510024723上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司201702上海市青浦区沪青平公路诸光路201号　
高分辨率的圆网制版用感光胶 CN200510024725上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司201702上海市青浦区沪青平公路诸光路201号　
平版印刷术用洗涤剂及冲洗液 CN200510052666大赛璐化学工业株式会社日本大阪府　
可聚合组合物和平版印刷版前体 CN200510052989富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻装置及器件制造方法 CN200510053040ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种采用激光对SU-8胶曝光光刻的方法及其装置 CN200510055286北京工业大学100022北京市朝阳区平乐园100号　
掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法 CN200510056073株式会社东芝日本东京都　
自动设计装置和方法及所制中间掩模组和半导体集成电路 CN200510007840株式会社东芝日本东京　
凹版印刷法与凹板印刷品 CN200410003776株式会社新克日本千叶县　
对用于丝网印刷高质量光盘的丝网印刷板进行照相制版的自动机器 CN200510005654萨体普林特公司意大利科莫　
化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法 CN200510004698松下电器产业株式会社日本大阪府　
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