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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
残留物含量降低的感光组合物连续液态加工法 CN99803848纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
抗蚀层的剥离方法 CN99804505弗莱斯金属公司美国新泽西　
含有马来酰亚胺的光致聚合组合物及其使用方法 CN99804722第一化学公司;南密西西比大学美国密西西比州　
特别适于由立体平版术的液态可辐射固化组合物 CN99804847范蒂科股份公司瑞士巴塞尔　
得自纤维素粘合剂的快速蚀刻、热固性抗反射涂料 CN99805595部鲁尔科学公司美国密苏里州　
光掩模坯的保持装置 CN99806027因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
用于193纳米波长的正性光刻胶组合物 CN99807271克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
可光聚合热固性树脂组合物 CN99807922西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
可光固化弹性组合物 CN99808048陶氏化学公司美国密执安州　
用来从基质表面剥离光阻材料和有机材料的组合物 CN99808468克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
具有脱模剂的表面 CN99808687明尼苏达大学董事会美国明尼苏达州　
用于清洗微电子衬底的含硅酸盐碱性组合物 CN99808801马林克罗特有限公司美国密苏里州黑兹尔伍德　
使用无抗蚀剂电子束光刻制造亚微米抗蚀金属/半导体结构 CN99811009宽蒂斯瑞普特公司加拿大魁北克　
微石印用光致抗蚀剂、聚合物和工艺 CN99811306纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
可电离辐射成象的感光聚合物组合物 CN99811798纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
用于正性光刻胶的混合溶剂体系 CN99812005克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
光刻胶及微平版印刷术 CN99812637纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
可光固化和光构图的二氢唑酮共聚物基水凝胶基质 CN99813055美国3M公司美国明尼苏达州　
化学放大型正光刻胶组合物 CN00100303住友化学工业株式会社日本大阪府　
液体喷洒装置 CN00101145达碁科技股份有限公司台湾省新竹市科学工业园区　
环烯烃聚合物与疏水性非甾族脂环添加剂的光刻胶组合物 CN00101839国际商业机器公司美国纽约　
环状烯烃聚合物和添加剂的光刻胶组合物 CN00101840国际商业机器公司美国纽约　
含有环烯烃聚合物及饱和甾族添加剂的光刻胶组合物 CN00101869国际商业机器公司美国纽约州　
改善光刻胶耐蚀刻性的方法 CN00102364因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物 CN00102769现代电子产业株式会社韩国京畿道　
感光性树脂组成物 CN00102856奇美实业股有限公司中国台湾　
电子束曝光系统及其方法 CN00103090日本电气株式会社日本东京都　
化学增强型正光刻胶组合物 CN00103514住友化学工业株式会社日本大阪府　
化学增强型光刻胶 CN00103570日本电气株式会社日本东京都　
含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物 CN00103850国际商业机器公司美国纽约州　
能量要求降低的平版成象 CN00104187压缩技术公司美国新罕布什尔洲　
糊料组合物、坯料片、以及多层基材 CN00104788株式会社村田制作所日本京都府　
减轻掩模制造中角部变圆的系统和方法 CN00104798因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
用于改善临界尺寸控制的抗反射涂层 CN00104809因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
改善光刻胶耐刻蚀性的方法 CN00105367因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
高温快速高反差印刷套药 CN00105461刘瑞琴、李文志130021吉林省长春市朝阳区永昌胡同13号李文志　
用于电子束曝光的掩模及制造方法和半导体器件制造方法 CN00106190日本电气株式会社日本东京　
微透镜、其和垂直空腔表面辐射激光器的组合及其制造方法 CN00106506三星电子株式会社韩国京畿道　
镶嵌腐蚀方法中各向异性氮化物的腐蚀工艺 CN00106557国际商业机器公司美国纽约　
电子束曝光方法 CN00107637日本电气株式会社日本东京　
含有四氢呋喃甲基氧羰基官能基的可聚合烯类化合物及含其的光阻剂 CN00107802长兴化学工业股份有限公司台湾省高雄市　
曝光方法及其装置 CN00108262东芝株式会社日本神奈川县　
双侧曝光系统 CN00108316丰和工业株式会社日本爱知县　
光刻胶正胶组合物 CN00109344住友化学工业株式会社日本大阪府　
顶部涂层组合物及使用该组合物形成精细图案的方法 CN00109361现代电子产业株式会社韩国京畿道　
一种形成光刻胶图形的方法 CN00109834日本电气株式会社日本东京都　
Ｘ光掩模板制造技术 CN00111413上海交通大学(200030)上海市华山路１９５４号　
一种复制技术 CN00113411刘章杨(336500)江西省新余市新钢公司村南４２幢１楼１号　
厚膜光刻胶的低温金属化制备方法 CN00116542上海交通大学200030上海市华山路1954号　
光刻胶组合物,其制备方法和用其形成图纹的方法 CN00118160三星电子株式会社韩国京畿道　
导电聚合物层印制图案的方法 CN00119218爱克法－格法特有限公司比利时莫策尔　
晶片加热装置以及使用其加热晶片的方法 CN00120146三星电子株式会社韩国京畿道　
无机被膜形成用组合物及无机被膜形成方法 CN00120418东京应化工业株式会社日本神奈川县　
整平的方法 CN00120471国际商业机器公司、英芬能技术北美公司、株式会社东芝美国纽约　
半导体器件的制造方法 CN00120716日本电气株式会社日本东京都　
降低基片依赖性的试剂 CN00122256和光纯药工业株式会社日本大阪　
包含双键的交联剂单体及含有此单体的光致抗蚀剂共聚物 CN00123479现代电子产业株式会社日本京畿道　
双面印刷电路板的曝光设备 CN00124136奥托玛－泰克公司法国瓦德勒伊　
加热干胶片及在干胶片上烘烤光致抗蚀剂膜的方法和设备 CN00124137三星电子株式会社韩国京畿道　
含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物 CN00124850现代电子产业株式会社韩国京畿道　
正型光致抗蚀剂组合物 CN00126260三星电子株式会社;东友半导体株式会社韩国京畿道　
正型光致抗蚀剂组合物 CN00126263三星电子株式会社;东友半导体株式会社韩国京畿道　
正型光致抗蚀剂层及其使用方法 CN00126840三星电子株式会社;东友半导体株式会社韩国京畿道　
红外线辐射和热敏感的组合物及用其涂覆的平版印刷印版 CN00128602拉斯特拉股份公司意大利布雷西亚　
修正光邻近效应的方法 CN00130042日本电气株式会社日本东京　
传送带式真空施加器及将抗蚀干膜施加于一印刷线路板上的方法 CN00131696希普雷公司美国马萨诸塞　
平版印版用支承体及使用了该支承体的平版印刷用原版 CN00131866富士胶片株式会社日本神奈川县　
抗蚀剂剥离装置和抗蚀剂剥离液管理方法以及半导体装置 CN00133195三菱电机株式会社日本东京都　
化学放大型正光刻胶组合物 CN00133683住友化学工业株式会社日本大阪府　
一种测量相对位置误差的装置 CN00133808奥托玛－泰克公司法国瓦德勒伊　
光聚合性组合物 CN00134577富士胶片株式会社日本神奈川县南足柄市中沼２１０番地　
具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组合物 CN00134734希普雷公司美国马萨诸塞　
酚/脂环的共聚物和光致抗蚀剂 CN00134877希普雷公司美国马萨诸塞　
含有可光聚合的粘合剂低聚物的可光成像的组合物 CN00134881罗姆和哈斯公司美国宾夕法尼亚　
光敏树脂组合物 CN00135063西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
含挠性低聚物的可光成像的组合物 CN00135311罗姆和哈斯公司美国宾夕法尼亚　
制备多层内连电路的方法 CN00135393纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
用作潜在酸供体的碘鎓盐 CN00135494西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法 CN00136105日本电气株式会社日本东京　
可红外线激光成像的平版印刷元件以及这种印刷元件的制作和成像方法 CN00136619压缩技术公司美国新罕布什尔州　
一种用于X射线光刻的相移掩模 CN00223443中国科学院光电技术研究所610209四川省双流350信箱　
彩色喷墨打印用PVC背喷透明胶片 CN00227645深圳市大陆旭科技有限公司518067广东省深圳市大陆旭科技公司　
全自动PS版烘版机 CN00230585李武明430077湖北省武汉市武昌黄鹂路65号湖北日报印刷厂　
高质量光学积分器件 CN00244379中国科学院光电技术研究所(610209)四川省双流３５０信箱　
投影光刻成像滤波装置 CN00244921中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
一种干涉光刻多光束形成系统 CN00244922中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
超高分辨率超高速激光全息刻录机 CN00246065易联招(100007)北京市东城区北新桥北沟沿甲４号　
正性辐射敏感性树脂组合物 CN00800062克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
敏射线树脂组合物 CN00800139克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
辐射敏感性树脂组合物 CN00800449克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
感光性树脂母体组合物 CN00800643东丽株式会社日本东京　
敏射线树脂组合物及其改进其防干性蚀刻性能的方法 CN00801036克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
敏射线树脂组合物及改进该组合物的防干蚀刻性能的方法 CN00801314克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
辐射敏感性组合物 CN00802166克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
用新型抽提技术制备分级酚醛清漆树脂 CN99813189克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
用于深紫外线光刻胶的防反射组合物 CN99813469克拉里安特国际有限公司瑞士穆腾茨　
交叉光栅光子晶体以其多次曝光的制造工艺 CN99814054康宁股份有限公司美国纽约州　
苯胺印刷版和苯胺印刷版用原版 CN99814918旭化成株式会社日本大阪　
具有高温稳定性的酚醛聚合物平面化薄膜 CN99816256联合讯号公司美国新泽西州　
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