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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
具有膜面保护层的光掩模原版、其制造方法及光掩模原版用的保护层形成液 CN99816953株式会社进映社日本东京都　
灯箱型的彩色喷墨胶片 CN00107810林廷峻台湾省台南市　
衰减相移掩模及其制作方法 CN00113046中国科学院光电技术研究所610209四川省双流350信箱　
光刻蚀刻制作工艺 CN00122450联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
光电及半导体制造过程中聚亚醯胺膜层的剥除方法 CN00129767磐达股份有限公司中国台湾　
一种银盐扩散转移铝基胶印版的显影液及其用途 CN00130128中国科学院感光化学研究所100101北京市朝阳区大屯路甲3号　
感光或感热性图像形成材料 CN00132496富士胶片株式会社日本神奈川县　
画像评价方法和平版印刷版品质管理方法 CN00132497富士胶片株式会社日本神奈川县　
光敏平版印版 CN00133306富士胶片株式会社日本神奈川县　
正型感光性组成物及用其制成的平版印刷版 CN00133637富士胶片株式会社日本神奈川县　
平版印刷版用原版 CN00134598富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光性平版印刷版 CN00135739富士胶片株式会社日本神奈川县　
用于短波半导体激光曝光的可光聚合组合物,光敏组合物和用于聚合光敏组合物的方法 CN00137015富士胶片株式会社日本神奈川县　
热敏平版印版前驱体 CN00137019富士胶片株式会社日本国神奈川县　
热敏性平版印刷版 CN00137409富士胶片株式会社日本神奈川县　
修正光学邻近效应的方法 CN00137418联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
日光曝晒制版装置 CN00218325洪帝坤中国台湾　
抗反射涂层组合物 CN00802540克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
多层衰减相移掩模 CN00802673纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
感光性组合物与光波导元件及其制造方法 CN00802736日本板硝子株式会社日本大阪府　
优化气体透光度的化学过滤方法 CN00802807唐纳森公司美国明尼苏达州　
光敏糊和使用该光敏糊的用于等离子体显示板的基材 CN00804026美国3M公司美国明尼苏达州　
光敏树脂组合物、使用光敏树脂组合物的感光性元件、蚀刻图形的制法及印刷线路板的制法 CN00804533日立化成工业株式会社日本东京　
用于辊涂的辐射敏感性树脂组合物和辊涂方法 CN00804857克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
适用于生成亚微米级宽金属线图案的制法 CN00804925科莱恩金融(BVI)有限公司;摩托罗拉公司英属维尔京群岛托尔托拉　
在衬底上形成微图形的方法 CN00806300米卢塔技术株式会社韩国汉城　
集成电路管芯产率最大化方法 CN00806398皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法 CN00807106纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
焊锡抗蚀剂油墨组合物 CN00807254太阳油墨制造株式会社日本东京　
光敏组合物 CN00807369范蒂科股份公司瑞士巴塞尔　
聚合物薄膜图案成形方法及其应用 CN00807451薄膜电子有限公司挪威奥斯陆　
腐蚀增强层 CN008075463M创新有限公司美国明尼苏达州　
在平版印刷中用于减少误差的方法 CN00807832麦克隆尼克激光系统有限公司瑞典塔比　
使用微胶囊的感光材料 CN00808071希卡勒公司美国俄亥俄州　
一种集成光学器件的生产方法 CN00808143布克哈姆技术公共有限公司英国牛津郡　
包含用于控制角落变圆的图形的掩模制作方法 CN00809406因芬尼昂技术北美公司美国加利福尼亚州　
感光元件、感光元件辊、使用其的抗蚀图形的制法、抗蚀图形、抗蚀图形的积层片、布线图形的制法及布线图形 CN00809410日立化成工业株式会社日本东京都　
碱显影型光固化性组合物及使用该组合物所得的烧成物图案 CN00810240太阳油墨制造株式会社日本东京　
半导体集成电路器件制备方法,其光掩膜和它的制备方法及掩膜胚 CN00810736株式会社日立制作所日本东京　
用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料 CN00811167科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
用于光刻胶的抗反射涂料 CN00811514科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
增强凸印版上的图像的方法 CN00811961麦克德米德图像技术有限公司美国佐治亚州　
光致抗蚀剂脱膜剂组合物 CN00812559东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
高性能图形发生器的数据路径 CN00812569微激光系统公司瑞典泰比　
光掩膜、其制作方法及使用了该掩膜的模样形成方法 CN00812599松下电器产业株式会社日本大阪府　
带有次分解校准标记窗口的照相平版印刷掩膜 CN00813177泰科电子罗吉斯迪克思股份公司瑞士施泰纳赫　
形成图形的方法 CN00813806克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
化学放大抗蚀剂聚合物及使用该聚合物的抗蚀剂组合物 CN00813991东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市　
吸收紫外线的支撑层及包含该支撑层的苯胺印刷元件 CN00814051麦克德米德图像技术有限公司美国佐治亚州　
合成凸印元件 CN00814180麦克德米德图像技术有限公司美国佐治亚州　
在微刻写入中的射束定位 CN00814427微激光系统公司瑞典泰比　
光敏性树脂组合物,利用该光敏性树脂组合物制成的光敏性元件,制作防蚀图形的方法,防蚀图形和防蚀图形的叠层基板 CN00815531日立化成工业株式会社日本东京都　
紫外和真空紫外透明的聚合物组合物及其应用 CN00815896纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
正型感光性聚酰亚胺树脂组合物 CN00816394日产化学工业株式会社日本东京　
平版印刷版所用原版 CN01100287富士胶片株式会社日本国神奈川县南足柄市中沼210番地　
曝光装置 CN01101347东芝株式会社日本神奈川县　
曝光方法及装置、曝光装置的制造方法以及器件制造方法 CN01101754株式会社尼康日本东京　
多重横向成像装置和方法 CN01102025代明机器技术有限公司联邦德国代明　
化学放大型正光刻胶组合物 CN01102176住友化学工业株式会社日本大阪府　
直接制版印刷设备及印版 CN01102181孙晓松100021北京市劲松719－1－201　
自动显影装置及补充显影补充液的方法 CN01102195富士胶片株式会社日本神奈川县南足柄市中沼210番地　
化学放大型正光刻胶组合物 CN01102197住友化学工业株式会社日本大阪府　
热敏性平版印刷版 CN01102344富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光性平版印刷版的制造方法 CN01102657富士胶片株式会社日本国神奈川县　
阳性型感光性平版印刷版 CN01103858富士胶片株式会社日本国神奈川县　
感热性平版印刷版，该平版印刷版用基板及基板制造方法 CN01103862富士胶片株式会社日本国神奈川县　
化学放大型正光刻胶组合物 CN01104058住友化学工业株式会社日本大阪府　
平版印刷版原版的制造方法 CN01104305富士胶片株式会社日本神奈川县　
在超紫外光源中气体喷射控制的护罩喷嘴 CN01104501TRW公司美国加利福尼亚　
曝光方法及其曝光装置、以及器件制造方法 CN01104530株式会社尼康日本东京　
用于平版印刷印版的保护性插页,以及平版印刷印版的包装方法 CN01109504富士胶片株式会社日本国神奈川县　
平版印刷版原版 CN01109752富士胶片株式会社日本国神奈川县　
化学放大型正光刻胶组合物 CN01110230住友化学工业株式会社日本大阪府　
金属离子含量低的4,4′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙基]苯基]－1,1－亚乙基]双酚及其光敏抗蚀剂组合物 CN01110985克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦兹　
金属离子含量低的4,4′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙基]苯基]－1,1－亚乙基]双酚及其光敏抗蚀剂组合物 CN01110986克拉里安特国际有限公司瑞士穆坦兹　
将光栅从静电放电中隔开的方法 CN01111225国际商业机器公司美国纽约州　
光敏化合物和光敏树脂 CN01112336东洋合成工业株式会社日本千叶县　
用于抗蚀剂流动工艺的光致抗蚀剂组合物以及使用所述组合物形成接触孔的方法 CN01115325现代电子产业株式会社韩国京畿道　
化学增强型正光刻胶组合物和锍盐 CN01115830住友化学工业股份有限公司日本国大阪市　
涂覆及显影的方法及其系统 CN01116946东京毅力科创株式会社日本东京都　
包括含有内酯部分的环烯聚合物的光致抗蚀剂组合物 CN01117158国际商业机器公司美国纽约　
曝光方法和设备制造方法 CN01117665株式会社尼康日本东京　
曝光装置以及曝光方法 CN01117666株式会社尼康日本东京　
平版印刷版的积层产品和平版印刷版的积层方法 CN01118514富士胶片株式会社日本神奈川县　
热敏性组合物和平印印刷板 CN01118534富士胶片株式会社日本国神奈川县　
膏料、显示器部件和显示器部件的制造方法 CN01119177东丽株式会社日本东京　
制备1,2－萘醌二叠氮化物感光剂的方法 CN01120763东洋合成工业株式会社日本千叶县　
曝光设备的光学元件保持装置 CN01120775株式会社尼康日本东京都　
光敏影像记录材料 CN01121443富士胶片株式会社日本国神奈川县　
用于涂敷和显影的系统和方法 CN01122045东京毅力科创株式会社日本东京都　
感光平印版的制造方法 CN01100838富士胶片株式会社日本神奈川县　
高温热流光刻制造方法 CN01101385联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
以接触孔模型为基础的光学邻近校正法 CN01103097联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置 CN01104684三星电子株式会社;弗吉尼亚技术知识资产公司韩国京畿道　
一种三维微结构的制作方法及其曝光装置 CN01108436中国科学院光电技术研究所610209四川双流350信箱　
感光热固型组合物 CN01109335联致科技股份有限公司台湾省桃园县　
一种在蚀刻过程中非破坏性测量侧向蚀刻宽度的方法 CN01110173矽统科技股份有限公司台湾新竹科学工业园区新竹县研新一路16号　
降低光学邻近效应的方法 CN01110413华邦电子股份有限公司中国台湾　
控制形成金属薄膜电极小剖面斜角的方法及其产品 CN01110431元太科技工业股份有限公司台湾省新竹市　
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